[發(fā)明專利]圖像再現(xiàn)方法以及圖像解析裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110088339.1 | 申請日: | 2021-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN113176194A | 公開(公告)日: | 2021-07-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 田川雄介;武田遼 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | G01N15/10 | 分類號: | G01N15/10;G01N21/45;G03H1/00;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 楊楷;毛立群 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 再現(xiàn) 方法 以及 解析 裝置 | ||
1.一種圖像再現(xiàn)方法,根據(jù)從光源部向物體射出的光中、在所述物體中衍射而到達檢測器的物光和未經(jīng)由所述物體而到達所述檢測器的參考光的干涉條紋圖像,來再現(xiàn)合焦的所述物體的圖像,其特征在于,包含:
根據(jù)所述干涉條紋圖像來創(chuàng)建由所述干涉條紋圖像中的第1方向的第1頻率和所述干涉條紋圖像中的第2方向的第2頻率確定強度的二維功率譜的步驟;
對所述二維功率譜中由所述第1頻率以及所述第2頻率確定的每個頻率分量,創(chuàng)建使該頻率分量與將該頻率分量所對應的多個強度匯總而計算出的特征量相對應的一維功率譜的步驟;
使用將所述一維功率譜中包含的多個特征量作為輸入的學習完畢的距離推定模型,來推定所述物體和所述檢測器之間的焦距的步驟。
2.如權利要求1所述的圖像再現(xiàn)方法,其特征在于,
所述特征量包含所述多個強度的統(tǒng)計量。
3.如權利要求2所述的圖像再現(xiàn)方法,其特征在于,
所述統(tǒng)計量包含所述多個強度的平均值。
4.如權利要求2所述的圖像再現(xiàn)方法,其特征在于,
所述統(tǒng)計量包含基于匯總了所述多個強度的直方圖的值。
5.如權利要求1所述的圖像再現(xiàn)方法,其特征在于,
對所述距離推定模型輸入所述一維功率譜中包含的所有的特征量的一部分。
6.如權利要求1所述的圖像再現(xiàn)方法,其特征在于,
所述物體包含細胞。
7.一種圖像解析裝置,根據(jù)從光源部向物體射出的光中、在所述物體中衍射而到達檢測器的物光和未經(jīng)由所述物體而到達所述檢測器的參考光的干涉條紋圖像,來再現(xiàn)合焦的所述物體的圖像,其特征在于,具備:
存儲部,保存有距離推定模型;
學習部,通過監(jiān)督式學習來構建所述距離推定模型的學習完畢模型;
推論部,使用所述距離推定模型來推定所述物體和所述檢測器之間的焦距,
所述推論部
根據(jù)所述干涉條紋圖像來創(chuàng)建由所述干涉條紋圖像中的第1方向的第1頻率和所述干涉條紋圖像中的第2方向的第2頻率確定強度的二維功率譜,
對所述二維功率譜中由所述第1頻率以及所述第2頻率確定的每個頻率分量,創(chuàng)建使該頻率分量與將該頻率分量所對應的多個強度匯總而計算出的特征量相對應的一維功率譜,
將所述一維功率譜中包含的多個特征量輸入所述距離推定模型來推定所述焦距。
8.一種圖像解析裝置,根據(jù)從光源部向物體射出的光中、在所述物體中衍射而到達檢測器的物光和未經(jīng)由所述物體而到達所述檢測器的參考光的干涉條紋圖像,來再現(xiàn)合焦的所述物體的圖像,其特征在于,具備:
存儲部,保存有學習完畢的距離推定模型;
推論部,使用所述距離推定模型來推定所述物體和所述檢測器之間的焦距,
所述推論部
根據(jù)所述干涉條紋圖像來創(chuàng)建由所述干涉條紋圖像中的第1方向的第1頻率和所述干涉條紋圖像中的第2方向的第2頻率確定強度的二維功率譜,
對所述二維功率譜中由所述第1頻率以及所述第2頻率確定的每個頻率分量,創(chuàng)建使該頻率分量與將該頻率分量所對應的多個強度匯總而計算出的特征量相對應的一維功率譜,
將所述一維功率譜中包含的多個特征量輸入所述距離推定模型來推定所述焦距。
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