[發明專利]投射光學系統和投影儀

有效

• 申請號: 202110087257.5
• 申請日: 2021-01-22
• 公開（公告）號: CN113176698B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發明（設計）人: 柳澤博隆
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;G02B13/00;G02B13/16;G02B13/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李慶澤;鄧毅

1.一種投射光學系統，其特征在于，其具有：

第1光學系統；

第2光學系統，其具有第1光學元件和第2光學元件，配置于所述第1光學系統的放大側；以及

配置機構，其選擇性地將所述第1光學元件和所述第2光學元件中的一方配置于所述第1光學系統的第1光軸上，

所述第1光學元件具有第1入射面、配置于所述第1入射面的所述放大側的第1反射面、以及配置于所述第1反射面的所述放大側的第1射出面，

所述第2光學元件具有第2入射面、配置于所述第2入射面的所述放大側的第2反射面、以及配置于所述第2反射面的所述放大側的第2射出面，

在所述第2光學系統配置有所述第1光學元件的第1配置中的第1投射角度與在所述第2光學系統配置有所述第2光學元件的第2配置中的第2投射角度不同。

2.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第2光學元件在所述第2反射面與所述第2射出面之間的光路上具有第3反射面。

3.根據權利要求2所述的投射光學系統，其特征在于，

在所述第2光學系統配置有所述第1光學元件的第1配置中從所述第1射出面投射的光束的第1投射方向與在所述第2光學系統配置有所述第2光學元件的第2配置中從所述第2射出面投射的光束的第2投射方向不同。

4.根據權利要求3所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第2投射方向是在沿著所述第1光學系統的所述第1光軸的方向上與所述第1投射方向相反的方向。

5.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1光學系統在所述第2光學系統配置有所述第1光學元件的第1配置和所述第2光學系統配置有所述第2光學元件的第2配置之間是公共的。

6.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述配置機構在所述第2光學系統配置有所述第1光學元件的第1配置中，使所述第1光學系統與所述第1光學元件的軸上面間距離成為第1距離，在所述第2光學系統配置有所述第2光學元件的第2配置中，使所述第1光學系統與所述第2光學元件的軸上面間距離成為與所述第1距離不同的第2距離，

所述軸上面間距離是所述第1光學系統的光軸上的面間距離。

7.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1反射面和所述第2反射面的形狀不同。

8.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1射出面和所述第2射出面的形狀不同。

9.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1入射面和所述第2入射面的形狀不同。

10.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1光學系統具有配置于所述第1光學系統的最靠所述放大側的第1透鏡、以及配置于所述第1透鏡的縮小側的第2透鏡，

所述第1透鏡與所述第2透鏡之間的距離在所述第2光學系統配置有所述第1光學元件的第1配置與所述第2光學系統配置有所述第2光學元件的第2配置之間不同。

11.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1反射面為凹形狀。

12.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第2反射面為凹形狀。

13.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第1射出面為向放大側突出的凸形狀。

14.根據權利要求1所述的投射光學系統，其特征在于，

所述第2射出面為向放大側突出的凸形狀。