[發(fā)明專利]零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110085560.1 | 申請日: | 2021-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN112731588B | 公開(公告)日: | 2023-01-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭振;付博文;李超;李樹力;周連群;李金澤;張威;姚佳 | 申請(專利權(quán))人: | 季華實驗室 |
| 主分類號: | G02B6/10 | 分類號: | G02B6/10;G02B6/13;C12Q1/6869 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 薛福玲 |
| 地址: | 528200 廣東省佛山市南海*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波導(dǎo) 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 | ||
1.一種零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)包括:
透明襯底層;
光纖波導(dǎo)層,設(shè)于所述透明襯底層的上側(cè);
金屬層,設(shè)于所述光纖波導(dǎo)層的上側(cè),所述金屬層設(shè)有上下貫通的零模波導(dǎo)孔,所述零模波導(dǎo)孔的側(cè)壁和所述光纖波導(dǎo)層的上端面共同限定出容置槽;以及,
鍵合層,覆蓋所述金屬層的上側(cè)面以及所述零模波導(dǎo)孔的側(cè)壁設(shè)置,且所述鍵合層與所述金屬層鍵合連接;
所述零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法包括以下步驟:
S10、在所述透明襯底層上形成光纖波導(dǎo)層;
S21、提供模板,所述模板的下側(cè)具有凹槽;
S22、在所述光纖波導(dǎo)層上涂覆紫外固化膠,將所述模板置于所述光纖波導(dǎo)層的上方后向下壓緊直至所述模板的下側(cè)面與所述光纖波導(dǎo)層的上側(cè)面直接或者間接抵接,以使至少部分所述紫外固化膠填充所述凹槽;
S23、將紫外固化膠固化處理后,取下所述模板,得到位于所述光纖波導(dǎo)層上側(cè)的中心的膠柱;
S30、在所述光纖波導(dǎo)層的上側(cè)沉積形成所述金屬層,所述金屬層環(huán)繞所述膠柱設(shè)置;
S40、將所述膠柱去除,以在所述金屬層中心形成所述零模波導(dǎo)孔;
S50、在所述金屬層的上側(cè)涂覆鍵合物質(zhì),并使所述鍵合物質(zhì)填充所述零模波導(dǎo)孔,經(jīng)固化處理得到固化層;
S60、對所述固化層進行紫外光照射,以使所述固化層分為與所述金屬層鍵合連接的所述鍵合層及位于所述鍵合層背離所述金屬層一側(cè)的剝離層;
S70、除去所述剝離層,得到所述零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,步驟S23包括:
將所述紫外固化膠用輻照度為80~100mW/cm2的紫外線照射30~60s,使所述紫外固化膠固化,取下所述模板,得到位于所述光纖波導(dǎo)層上側(cè)的中心的膠柱。
3.如權(quán)利要求1所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,在步驟S40中,所述膠柱的去除方法為:將所述膠柱浸入有機溶劑中,以使所述膠柱溶解于所述有機溶劑中。
4.如權(quán)利要求3所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述有機溶劑包括四氫呋喃。
5.如權(quán)利要求1所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,在步驟S60中,所述紫外光照射的條件為:紫外光波長為250~255nm,照射時間為1~3min。
6.如權(quán)利要求1所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述金屬層的厚度為90~110nm;和/或,
所述透明襯底層的材質(zhì)包括石英玻璃。
7.如權(quán)利要求1所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述鍵合層的材質(zhì)包括聚二甲基硅氧烷。
8.如權(quán)利要求7所述的零模波導(dǎo)孔結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述鍵合層的厚度為3~5nm。
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