[發明專利]一種電子元件晶元制備加工系統

在審

• 申請號: 202110079513.6
• 申請日: 2021-01-21
• 公開（公告）號: CN112864052A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 任玉成;陳麗麗
• 申請（專利權）人: 任玉成
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供了一種電子元件晶元制備加工系統，包括支撐架、清洗池、清洗機構以及干燥取出機構。可以解決電子元件晶元制備過程中所存在的以下難題：a.電子元件晶元長時間放置時，其表面會沾染需要灰塵和各種細小的臟物，因此在實際使用時都要提前對晶元進行清洗，確保晶元表面無灰塵和臟物，傳統的清洗方式大多通過清洗箱批量化清洗，這種方式存在表面清洗不干凈，晶元之間存在碰撞現象，容易對晶元表面劃傷；b.目前現有的清潔裝置針對單個晶元清洗時，往往對晶元進行夾持固定，然后對表面進行刷洗，存在夾持部位無法清洗，同時夾持時會對晶元表面有所損傷。

技術領域

本發明涉及電子元件技術領域，具體涉及一種電子元件晶元制備加工系統。

背景技術

晶元是生產集成電路所用的載體，多指單晶硅圓片。單晶硅圓片由普通硅砂拉制提煉，經過溶解、提純、蒸餾一系列措施制成單晶硅棒，單晶硅棒經過拋光、切片之后，就成為了晶元。晶元是最常用的半導體材料,按其直徑分為4英寸、5英寸、6英寸、8英寸等規格，近來發展出12英寸甚至研發更大規格(14英吋、15英吋、16英吋、……20英吋以上等)。晶元越大，同一圓片上可生產的IC就越多，可降低成本；但要求材料技術和生產技術更高。

目前，電子元件晶元制備過程中所存在的以下難題：a.電子元件晶元長時間放置時，其表面會沾染需要灰塵和各種細小的臟物，因此在實際使用時都要提前對晶元進行清洗，確保晶元表面無灰塵和臟物，傳統的清洗方式大多通過清洗箱批量化清洗，這種方式存在表面清洗不干凈，晶元之間存在碰撞現象，容易對晶元表面劃傷；b.目前現有的清潔裝置針對單個晶元清洗時，往往對晶元進行夾持固定，然后對表面進行刷洗，存在夾持部位無法清洗，同時夾持時會對晶元表面有所損傷。

發明內容

(一)要解決的技術問題

本發明提供了一種電子元件晶元制備加工系統，可以解決電子元件晶元制備過程中所存在的以下難題：a.電子元件晶元長時間放置時，其表面會沾染需要灰塵和各種細小的臟物，因此在實際使用時都要提前對晶元進行清洗，確保晶元表面無灰塵和臟物，傳統的清洗方式大多通過清洗箱批量化清洗，這種方式存在表面清洗不干凈，晶元之間存在碰撞現象，容易對晶元表面劃傷；b.目前現有的清潔裝置針對單個晶元清洗時，往往對晶元進行夾持固定，然后對表面進行刷洗，存在夾持部位無法清洗，同時夾持時會對晶元表面有所損傷。

(二)技術方案

為了實現上述目的，本發明采用以下技術方案：一種電子元件晶元制備加工系統，包括支撐架、清洗池、清洗機構以及干燥取出機構，所述的清洗池固定安裝在支撐架底部，所述清洗池中盛放有清洗液，所述清洗池上方設置有清洗機構，所述清洗池上方設置有干燥取出機構，所述清洗機構與干燥取出機構相連接，所述干燥取出機構固定安裝在支撐架的頂部和中部；其中：

所述的清洗機構包括清洗框、滑動槽、滑動塊、輔助桿、清洗支鏈、海綿碗、環形架、支撐塊、支撐桿以及轉動軸，所述清洗框整體為上下開口的空心殼體結構，所述清洗框左右側壁開設有對稱的滑動槽，所述滑動槽內上下滑動設置有滑動塊，所述滑動塊遠離清洗框的端面固定安裝有輔助桿，所述輔助桿與清洗支鏈相連接，所述清洗支鏈安裝在清洗框后端面，所述清洗框內部設置有環形架，所述環形架為半圓形碗狀結構，所述環形架內壁上設置有海綿碗，所述海綿碗為海綿材料制作，所述環形架下方設置有支撐塊，所述支撐塊為環形結構，所述環形架下端與支撐塊上端面滑動配合，所述支撐塊通過支撐桿固定安裝在清洗框內壁上，所述環形架上端前后壁上對稱固定有轉動軸，所述轉動軸通過軸承固定在清洗框內壁上，所述滑動塊位于清洗框內部的端面上開設有平面齒條，所述環形架外壁上開設有與滑動塊的平面齒條相配合的環形齒條。