[發明專利]一種低能量固化的光刻膠、抗蝕劑圖案及其制備方法在審
| 申請號： | 202110078019.8 | 申請日： | 2021-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN112859520A | 公開（公告）日： | 2021-05-28 |
| 發明（設計）人： | 王繼寶;周翠蘋 | 申請（專利權）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;G03F7/075;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人： | 任志龍 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區西*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 能量 固化 光刻 抗蝕劑 圖案 及其 制備 方法 | ||
1.一種低能量固化的光刻膠，其特征在于，所述光刻膠包括如下重量份的組分：
A：含羧基丙烯酸酯聚合物30~80份、B：光降解共軛低聚物、C：光聚合引發劑3~15份、D：三聚氰胺衍生物1~30份、E：二胺化合物1~10份；其中，A與B的重量份總和以100份計。
2.根據權利要求1所述的一種低能量固化的光刻膠，其特征在于：所述光刻膠包括如下重量份的組分：
A：含羧基丙烯酸酯聚合物55~65份、B：光降解共軛低聚物、C：光聚合引發劑8~12份、D：三聚氰胺衍生物12~16份、E：二胺化合物4~6份；其中，A與B的重量份總和以100份計。
3.根據權利要求1所述的一種低能量固化的光刻膠，其特征在于：所述B選用聚硅烷低聚物，所述B的分子量為1100~1800。
4.根據權利要求1所述的一種低能量固化的光刻膠，其特征在于：所述A的分子量為88w~109w。
5.根據權利要求3所述的一種低能量固化的光刻膠，其特征在于：所述C選用肟酯類光引發劑或二茂鐵類光引發劑。
6.根據權利要求5所述的一種低能量固化的光刻膠，其特征在于：所述二茂鐵類光引發劑選用羰基改性二茂鐵。
7.一種抗蝕劑圖案，其特征在于：所述抗蝕劑圖案主要由權利要求1~6任意一種光刻膠制成。
8.權利要求7所述的一種抗蝕劑圖案的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：
按重量份稱取A、B、C、D、E，混合均勻，得到混合物；
將混合物溶解在乙醇中，得到質量分數為30~60%的醇溶液；
將醇溶液噴涂在透明支撐體上，形成感光膜；
在真空環境下，控制溫度為50℃~70℃，壓力為0.3~0.5Mpa，將感光膜壓接到FPC基板上；
將電路圖案投影至感光膜上，待投影部分固化；
利用堿性溶液將感光膜上未投影部分洗凈，固化部分形成所述抗蝕劑圖案。
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