[發(fā)明專利]抓持器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110072156.0
• 申請日: 2021-01-19
• 公開（公告）號: CN112873179B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賴宇鋒;鄧豪;梅濤;王超;孔文超
• 申請（專利權(quán)）人: 鵬城實(shí)驗(yàn)室
• 主分類號: B25J9/00
• 分類號: B25J9/00;B25J9/14;B25J15/06
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 張志江

1.一種抓持器，其特征在于，包括：

機(jī)械臂；

吸盤，所述吸盤設(shè)于所述機(jī)械臂上，所述吸盤包括：

盤體，所述盤體包括底部以及連接于所述底部的側(cè)壁部，所述底部和所述側(cè)壁部圍合形成空腔，且所述側(cè)壁部遠(yuǎn)離所述底部的一端形成開口；

隔膜，所述隔膜設(shè)于所述空腔內(nèi)，且所述隔膜的邊沿與所述側(cè)壁部連接，所述隔膜將所述空腔分隔為朝向所述開口的吸附腔以及背向所述開口的調(diào)節(jié)腔，所述調(diào)節(jié)腔通過所述隔膜與所述吸附腔隔離，所述側(cè)壁部的厚度介于3-6㎜之間，所述側(cè)壁部遠(yuǎn)離所述底部的一端背向所述開口的中心延伸形成接觸部，所述接觸部的厚度與所述側(cè)壁部的厚度相同，所述底部至所述隔膜與所述側(cè)壁部的連接處的高度為h1，所述隔膜的中心至所述隔膜與所述側(cè)壁部的連接處的高度為h2，所述接觸部的邊沿至所述隔膜與所述側(cè)壁部的連接處的高度為h3，h1≥h2，且h2≤h3，所述盤體的材料硬度介于25A-60A之間；

控制裝置，所述控制裝置用于控制所述隔膜朝向或背向所述開口形變，所述控制裝置包括記憶金屬，所述記憶金屬連接于所述底部和所述隔膜之間，所述記憶金屬用于通電以形變；或者，所述控制裝置包括電磁鐵和磁吸件，所述電磁鐵設(shè)于所述底部上，所述磁吸件設(shè)于所述隔膜朝向所述底部的表面。

2.如權(quán)利要求1所述的抓持器，其特征在于，所述控制裝置包括負(fù)壓設(shè)備和管道，所述管道設(shè)于所述機(jī)械臂內(nèi)，且所述管道連通所述負(fù)壓設(shè)備和所述調(diào)節(jié)腔。

3.如權(quán)利要求2所述的抓持器，其特征在于，所述吸盤的數(shù)量為多個，所述管道的數(shù)量與所述吸盤相同，每一所述吸盤的調(diào)節(jié)腔均通過一個所述管道與所述負(fù)壓設(shè)備連通。

4.如權(quán)利要求1所述的抓持器，其特征在于，所述吸盤的數(shù)量為多個，且多個所述吸盤沿所述機(jī)械臂的延伸方向至少分布有兩排；

其中，至少兩排所述吸盤沿垂直于所述機(jī)械臂的延伸方向一一正對；

和/或，至少兩排所述吸盤沿垂直于所述機(jī)械臂的延伸方向相互錯位。

5.如權(quán)利要求1所述的抓持器，其特征在于，所述接觸部背向所述底部的表面設(shè)有壓力傳感器。

6.如權(quán)利要求5所述的抓持器，其特征在于，所述壓力傳感器的數(shù)量為復(fù)數(shù)個，復(fù)數(shù)個所述壓力傳感器關(guān)于所述開口的中心對稱布設(shè)；

和/或，所述壓力傳感器的數(shù)量為多個，多個所述壓力傳感器沿所述接觸部的周向均勻間隔分布。

7.如權(quán)利要求1所述的抓持器，其特征在于，所述盤體的材料硬度介于25A-60A之間。

8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的抓持器，其特征在于，所述機(jī)械臂為軟體臂。

9.如權(quán)利要求8所述的抓持器，其特征在于，所述抓持器還包括驅(qū)動裝置，所述軟體臂內(nèi)設(shè)有驅(qū)動腔，且所述驅(qū)動腔沿所述軟體臂的延伸方向延伸，所述驅(qū)動裝置與所述驅(qū)動腔連通，所述驅(qū)動裝置用于朝所述驅(qū)動腔內(nèi)充入氣體或液體，以驅(qū)使所述軟體臂彎曲。

10.如權(quán)利要求9所述的抓持器，其特征在于，所述驅(qū)動腔的數(shù)量至少有兩個，且所述驅(qū)動裝置朝不同的所述驅(qū)動腔內(nèi)充入氣體或液體時，所述軟體臂朝不同的方向彎曲。