[發明專利]一種凈水裝置、自清洗過濾系統和方法

在審

• 申請號: 202110069813.6
• 申請日: 2021-01-19
• 公開（公告）號: CN112744964A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: 崔登凱;劉青;楊磊;宮欽玉
• 申請（專利權）人: 青島海爾施特勞斯水設備有限公司;海爾智家股份有限公司
• 主分類號: C02F9/06
• 分類號: C02F9/06
• 代理公司: 青島聯智專利商標事務所有限公司 37101
• 代理人: 張少鳳

1.一種自清洗過濾系統，其特征在于，所述系統包括：

過濾膜單元，用于對水進行過濾并輸出純水和濃水；

電滲析清洗單元，用于接收所述濃水并將所述濃水電解生成酸水、堿水和純水；

控制單元，用于控制所述酸水、堿水和純水依次對所述過濾膜單元進行清洗，或者，用于控制所述堿水、酸水和純水依次對所述過濾膜單元進行清洗。

2.根據權利要求1所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述系統包括：

水質監測模塊，用于檢測所述電滲析清洗單元電解生成的純水的水質；

所述控制單元還用于在所述水質達標時接入所述過濾膜單元的純水輸出端。

3.根據權利要求1所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述控制單元還用于控制清洗完所述過濾膜單元的酸水、堿水和純水進入所述電滲析清洗單元并從所述電滲析清洗單元排出。

4.根據權利要求3所述的自清洗過濾方法，其特征在于，所述控制單元還用于控制所述電滲析清洗單元接收的濃水進行一次電解并對所述過濾膜單元清洗后即通過所述電滲析清洗單元排出。

5.根據權利要求1所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述系統包括：

水量檢測模塊或者計時模塊，所述水量檢測模塊用于檢測所述過濾膜單元的進水量，所述計時模塊用于對制水時間進行計時；

所述控制單元還用于在所述進水量達到預設水量或所述制水時間達到預設時間時，再控制所述電滲析清洗單元對所述過濾膜單元進行清洗。

6.根據權利要求1-5任意一項所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述過濾膜單元為反滲透膜或超濾膜。

7.根據權利要求1-5任意一項所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述電滲析清洗單元包括：

殼體；

隔離件，位于所述殼體內，所述隔離件包括雙極膜、陰離子交換膜和陽離子交換膜，所述殼體內被所述隔離件分隔形成陽極室、純水室、堿室、酸室和陰極室；

電極，位于所述殼體內，所述電極包括第一電極和第二電極，所述第一電極和第二電極分別位于所述陽極室和陰極室，或者，所述第一電極和第二電極分別位于殼體上；

所述殼體上具有分別與陽極室、純水室、堿室、酸室和陰極室連通的進水口，所述殼體上具有與所述純水室連通的純水室進水口、與所述堿室連通的堿室出水口、與所述酸室連通的酸室出水口。

8.根據權利要求7所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述純水室出水口、堿室出水口和酸室出水口通過管路與所述過濾膜單元相接，所述管路上設置有電磁閥。

9.根據權利要求7所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述電滲析清洗單元包括濃水管路，所述濃水管路通過第一電磁閥與所述進水口連接，所述濃水管路具有濃水進口端和濃水出口端，所述濃水進口端用于與所述過濾膜單元連接，所述陽極室和陰極室通過第二電磁閥與所述濃水管路連接。

10.根據權利要求7所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述隔離件均由開孔支撐體支撐成型，所述隔離件封堵所述開孔。

11.根據權利要求10所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述隔離件與所述支撐體形成膜堆。

12.根據權利要求11所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述膜堆為立方體或者圓筒狀。

13.根據權利要求7所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述電滲析清洗單元的殼體體積及膜面積根據所述過濾膜單元的膜面積確定。

14.根據權利要求7所述的自清洗過濾系統，其特征在于，所述電極通過開關元件與電源連接。