[發(fā)明專利]一種多孔光學(xué)元件通道孔軸向垂直對(duì)準(zhǔn)裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110069653.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112924140A | 公開(公告)日: | 2021-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李曉峰;李廷濤;趙恒;陳超;曾進(jìn)能;周善堃;鐘梓源;常樂;楊振 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北方夜視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01M11/00 | 分類號(hào): | G01M11/00;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 昆明今威專利商標(biāo)代理有限公司 53115 | 代理人: | 賽曉剛 |
| 地址: | 650217*** | 國省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多孔 光學(xué) 元件 通道 軸向 垂直 對(duì)準(zhǔn) 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種多孔光學(xué)元件通道孔軸向垂直對(duì)準(zhǔn)裝置及方法,由承載平臺(tái)、底座、支撐座、支撐桿、連接桿、激光燈及多孔光學(xué)元件組成;承載平臺(tái)的中心有一個(gè)呈凹陷狀的下沉圓形臺(tái)階,底座放入該下沉圓形臺(tái)階內(nèi);底座的頂部設(shè)置有大臺(tái)面,在大臺(tái)面的上面設(shè)置有一個(gè)圓形的小臺(tái)面,小臺(tái)面上設(shè)置有一個(gè)用于擺放支撐座的圓形通孔;支撐座呈圓環(huán)形,其中間區(qū)域?yàn)橥祝黄渫鈭A側(cè)設(shè)有臺(tái)階,使用時(shí)該臺(tái)階與底座的圓形通孔配合定位;支撐座內(nèi)擺放多孔光學(xué)元件;在承載平臺(tái)的頂部設(shè)置支撐桿,支撐桿的頂端橫置有連接桿,連接桿的另一頭安裝有激光燈。本發(fā)明在把多孔光學(xué)元件的通道孔軸向統(tǒng)一調(diào)整為垂直于蒸發(fā)源后,鍍制的輸入氧化物膜一致性更好、更均勻。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種將多孔光學(xué)元件鍍膜前的通道孔徑在垂直方向?qū)?zhǔn)鍍膜設(shè)備蒸發(fā)源的 裝置及方法,尤其是一種多孔光學(xué)元件通道孔軸向垂直對(duì)準(zhǔn)裝置及方法,屬于多孔光學(xué)元件 技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
以微光像增強(qiáng)器為代表的真空光電子器件在社會(huì)發(fā)展及國民經(jīng)濟(jì)的各行業(yè)中有著廣泛 的應(yīng)用,在國際國內(nèi)受到普遍的重視。
微光像增強(qiáng)器主要由光電陰極輸入窗、多堿光電陰極、多孔光學(xué)元件、熒光屏、陽極輸 出窗及高壓電源等零部件組成。其工作原理是:在夜間低照度環(huán)境下,將人眼不能看見的來 自目標(biāo)的微弱光線聚集在像增強(qiáng)器的光電陰極上,通過多堿光電陰極把光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成相應(yīng) 的電子圖像,電子圖像經(jīng)多孔光學(xué)元件(電子倍增器)放大、增強(qiáng),再經(jīng)陽極高壓加速,轟 擊熒光屏轉(zhuǎn)換成亮度足夠的光學(xué)圖像,最后經(jīng)過陽極輸出窗輸出。
多孔光學(xué)元件是一種大面陣的通道電子倍增器,由無數(shù)根空芯通道所組成。多孔光學(xué)元 件的通道孔軸向與元件柱面存在一定的斜切角。多孔光學(xué)元件由通道孔及通道壁組成。如果 一個(gè)多孔光學(xué)元件的開口面積比為65%,即從幾何角度考慮,多孔光學(xué)元件的通道孔面積為 65%,通道壁面積為35%。
多孔光學(xué)元件的輸入面及輸出面均鍍制有一層具有良好導(dǎo)電性和粘附性的鎳-鉻合金電 極。鎳-鉻合金電極采用真空蒸發(fā)的工藝進(jìn)行鍍制。在多孔光學(xué)元件的輸入面及輸出面上鍍 制電極時(shí),其通道壁和通道孔口上都會(huì)鍍上電極。
由于多孔光學(xué)元件的通道孔軸向與元件柱面存在一定的斜切角,如果在鍍膜前沒有把多 孔光學(xué)元件的通道孔軸向統(tǒng)一調(diào)整為垂直于蒸發(fā)源時(shí),鍍制后就會(huì)出現(xiàn)輸入氧化物膜與輸出 金屬膜覆蓋輸入及輸出電極深度不一致的情況。該情況會(huì)造成像增強(qiáng)器信噪比及分辨力較 低。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述問題,本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種多孔光學(xué)元件通道孔軸向垂直對(duì)準(zhǔn)裝 置,該裝置能夠幫助實(shí)現(xiàn)在鍍膜前把多孔光學(xué)元件的通道孔軸向統(tǒng)一調(diào)整為垂直于蒸發(fā)源; 本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種多孔光學(xué)元件通道孔軸向垂直對(duì)準(zhǔn)方法,利用本發(fā)明的裝置 實(shí)現(xiàn)多孔光學(xué)元件的通道孔軸向統(tǒng)一調(diào)整為垂直于蒸發(fā)源。
本發(fā)明的根本目的是解決當(dāng)前多孔光學(xué)元件鍍膜時(shí)輸入氧化物膜與輸出金屬膜覆蓋輸 入及輸出電極深度不一致的問題,提供一種多孔光學(xué)元件通道孔軸向垂直對(duì)準(zhǔn)裝置及方法, 提高像增強(qiáng)器的信噪比和分辨力。
本發(fā)明的主要技術(shù)方案是:
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