[發(fā)明專利]一種高壓靜電除霧控制系統(tǒng)、方法、裝置及介質

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110069005.X
• 申請日: 2021-01-19
• 公開（公告）號: CN112916207A
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設計）人: 陳明鋒;衡文佳;徐劍峰;李煜川;戴明;蔣鑫
• 申請（專利權）人: 無錫混沌能源技術有限公司;江蘇雙良低碳產業(yè)技術研究院有限公司
• 主分類號: B03C3/68
• 分類號: B03C3/68
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王曉坤

本申請公開了一種高壓靜電除霧控制系統(tǒng)、方法、裝置及介質，其中系統(tǒng)包括，直流高壓發(fā)生裝置，電暈線，霧滴捕集極板，以及與直流高壓發(fā)生裝置、電暈線及霧滴捕集極板連接處理器，其中處理器用于預先建立算法模型，獲取運行數(shù)據(jù)后，利用算法模型通過運行數(shù)據(jù)計算輸出數(shù)據(jù)，以便于根據(jù)輸出數(shù)據(jù)控制直流高壓發(fā)生裝置的電壓和/或電暈線與霧滴捕集極板間的距離。本申請?zhí)峁┑南到y(tǒng)，能夠準確的控制電壓和/或距離，從而使得高壓靜電除霧裝置能夠逼近最優(yōu)的運行狀態(tài)，避免了電壓值和/或距離值較大或較小而產生的嚴重后果，提高了高壓靜電除霧裝置收集水霧的效率，提高了高壓靜電除霧裝置的安全性。

技術領域

本申請涉及靜電除霧技術領域，特別是涉及一種高壓靜電除霧控制系統(tǒng)、方法、裝置及介質。

背景技術

隨著全球的能源生產和消費的快速發(fā)展，火力發(fā)電廠發(fā)電量也越來越多。而火力發(fā)電廠的煙囪或冷卻塔內的飽和水蒸氣排出后，遇到冷工期形成白煙或白霧，嚴重的影響了城市生態(tài)環(huán)境。為了保護生態(tài)環(huán)境，常通過高壓靜電除霧技術收集水霧。

目前，高壓靜電除霧裝置通過高壓恒流供電裝置在電暈線和霧滴捕集極板之間形成直流高壓場，在高壓的作用下電暈線周圍產生電暈層，空氣分子發(fā)生電離產生電子和少量的正離子；隨著白色煙霧進入除霧裝置，霧粒子與這些空氣離子相撞而成為帶電的負離子；在電場的作用下，這些帶負電的霧粒子向霧滴捕集極板遷移，電荷被中和后在捕集極板表面形成水膜，依靠重力流向霧水收集器，從而達到消除白霧和霧水回收目的。但是，由于高壓恒流供電裝置的電壓值通過人工經驗設定，因此常常會導致電壓值較大或較小，當電壓值設定較高時，霧滴捕集極板的表面會出現(xiàn)閃絡現(xiàn)象(固體絕緣子周圍的氣體或液體電介質被擊穿時沿固體絕緣子表面放電的現(xiàn)象)，導致?lián)p壞霧滴捕集極板表面的絕緣質，降低了高壓靜電除霧裝置的安全性，當電壓值設定較低時，降低了收集水霧的效率，降低了除霧的效果。此外，由于電暈線和霧滴捕集極板之間的距離也是通過人工經驗設定，因此常常會導致距離設定的較大或較小，從而導致降低了收集水霧的效率。

由此可見，如何提高高壓靜電除霧裝置收集水霧的效率，同時提高高壓靜電除霧裝置的安全性是本領域技術人員亟待解決的問題。

發(fā)明內容

本申請的目的是提供一種高壓靜電除霧控制系統(tǒng)，用以提高高壓靜電除霧裝置收集水霧的效率，提高高壓靜電除霧裝置的安全性。本申請的目的是還提供一種高壓靜電除霧控制方法、裝置及介質。

為解決上述技術問題，本申請?zhí)峁┮环N高壓靜電除霧控制系統(tǒng)，包括直流高壓發(fā)生裝置、電暈線和霧滴捕集極板，還包括：與所述直流高壓發(fā)生裝置、所述電暈線和所述霧滴捕集極板連接的處理器；

所述處理器，用于獲取運行數(shù)據(jù)，并通過預先建立的算法模型根據(jù)所述運行數(shù)據(jù)計算輸出數(shù)據(jù)，以便于根據(jù)所述輸出數(shù)據(jù)控制所述直流高壓發(fā)生裝置的電壓和/或所述電暈線與所述霧滴捕集極板間的距離。

優(yōu)選的，還包括：數(shù)據(jù)采集器，與所述直流高壓發(fā)生裝置、所述電暈線和所述霧滴捕集極板連接的電動執(zhí)行器，分別與所述數(shù)據(jù)采集器、所述電動執(zhí)行器以及所述處理器連接的控制器；

所述控制器，用于將所述數(shù)據(jù)采集器發(fā)送的采集數(shù)據(jù)轉化為所述運行數(shù)據(jù)，并將所述運行數(shù)據(jù)發(fā)送至所述處理器，還用于根據(jù)所述處理器發(fā)送的輸出數(shù)據(jù)向所述電動執(zhí)行器發(fā)送控制指令；

所述電動執(zhí)行器，用于根據(jù)所述控制指令控制所述直流高壓發(fā)生裝置的電壓和/或所述電暈線與所述霧滴捕集極板間的距離。

優(yōu)選的，還包括：與所述處理器連接的云計算平臺；

所述云計算平臺，用于獲取所述處理器發(fā)送的歷史運行數(shù)據(jù)、歷史輸出數(shù)據(jù)以及歷史控制過程數(shù)據(jù)，并根據(jù)所述歷史運行數(shù)據(jù)、所述歷史輸出數(shù)據(jù)以及所述歷史控制過程數(shù)據(jù)訓練所述算法模型，還用于將訓練結束的所述算法模型發(fā)送至所述處理器。

優(yōu)選的，所述控制器具體為工業(yè)DCS控制器。