[發明專利]一種用于甲烷氧化偶聯制乙烯的多級噴射環流反應器有效
| 申請號: | 202110068239.2 | 申請日: | 2021-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN112619566B | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | 李德寶;高用祥;劉俊義;林明桂;馬軍祥;張力;賈麗濤;崔艷斌;余海兵;夏銘;牛鵬宇;荊明杰 | 申請(專利權)人: | 山西潞安化工有限公司;中國科學院山西煤炭化學研究所 |
| 主分類號: | B01J8/22 | 分類號: | B01J8/22;C07C2/84;C07C11/04 |
| 代理公司: | 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101 | 代理人: | 李富元 |
| 地址: | 046200 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 甲烷 氧化 偶聯制 乙烯 多級 噴射 環流 反應器 | ||
本發明涉及甲烷轉化技術領域,一種用于甲烷氧化偶聯制乙烯的多級噴射環流反應器,包括噴嘴、錐形底、多級導流筒、氣體分布器、殼體、旋風分離器、換熱器和返料裝置,所述的噴嘴位于錐形底底部,錐形底處于殼體底端,多級導流筒位于殼體中下部數,多級導流筒為量大于等于2個的等徑豎直放置的圓柱體,氣體分布器處于殼體中下部且數量為1個或多個。本發明利用噴嘴、錐形底、多級導流筒和氣體分布器形成物料的強制內環流,能促進物料的規則運動,減小返混,強化傳質、傳熱,有助于反應器內溫度均勻分布,提高催化劑利用率和產品收率。
技術領域
本發明涉及甲烷轉化技術領域,特別是涉及一種用于甲烷氧化偶聯制乙烯的多級噴射環流反應器。
背景技術
乙烯是一種重要的基礎有機化工產品及原料,其生產水平是衡量一個國家化工實力的重要指標。目前乙烯生產以石腦油裂解為主,存在成本、能耗較高及溫室氣體排放等問題。隨著國際經濟的發展,乙烯生產原料趨向于輕質化和多元化。甲烷氧化偶聯(OCM)一步法直接制乙烯技術具有路線簡單、經濟性良好等優勢,是一種發展前景廣闊的乙烯生產技術,對我國能源結構優化有重大意義。
OCM反應是高溫(750~950℃)下的強放熱反應,乙烯收率對溫度敏感度高。如何移除反應過程中的劇烈放熱量是該技術工程化的關鍵。目前OCM反應器主要有固定床、流化床和膜反應器等。
傳統固定床反應器技術成熟,在實施過程中常輔以多段冷激、控制原料量和添加稀釋氣等措施來控制床層溫度,但針對OCM快速強放熱的反應特點,實際生產過程中仍存在溫度控制困難問題。公開號為CN 106732201 B公開了一種OCM薄層固定床反應器,包含至少兩段的反應段床層,每段床層由1~2層催化劑組成,高度為20~40 mm,每段反應段間通過急冷換熱器連接。這種反應器雖然克服了軸向溫度梯度問題,但徑向仍存在溫度分布不均等問題,且各床層間溫度控制較復雜,設備和操作成本較高。
流化床利用氣固間的劇烈運動能有效強化傳質、傳熱過程,消除反應器內熱點。公開號為CN 108530248 A公開申請了一種OCM流化床裝置,包含流化區和沉降區,流化區內包含換熱器和氣體分布器,沉降區內設置多個旋風分離器。該反應器雖然能有效消除熱點,但反應器內氣體返混嚴重,加劇二次反應過程,影響乙烯選擇性。
Jaso(2011年,2011.03.23)提出了一種輔助流化床的膜反應器,通過膜控制氧氣進料量,進而控制反應器溫度和反應程度。雖然該膜反應器能實現溫度的均勻分布和高乙烯收率,但工業化中膜的再生和污染問題不可避免。
發明內容
為了克服上述現有技術的不足,本發明提供了一種用于甲烷氧化偶聯制乙烯的多級噴射環流反應器,以解決反應器內溫度分布不均、返混嚴重、乙烯收率低的問題。
本發明所采用的技術方案是:一種用于甲烷氧化偶聯制乙烯的多級噴射環流反應器,包括噴嘴(1)、錐形底(2)、多級導流筒、氣體分布器(5)、殼體(3)、旋風分離器(9)、換熱器(11)和返料裝置,所述的噴嘴(1)位于錐形底(2)底部,錐形底(2)處于殼體(3)底端,多級導流筒位于殼體(3)中下部數,多級導流筒為量大于等于2個的等徑豎直放置的圓柱體,氣體分布器(5)處于殼體(3)中下部且數量為1個或多個,殼體(3)的殼體頂端氣體出口(7)連接旋風分離器(9)上部,旋風分離器(9)頂端設置有產品氣出口(8),旋風分離器(9)的底部連通料腿(10),料腿(10)中間設置換熱器(11),料腿(10)和返料裝置聯通,返料裝置包含返料閥(12)、二次風進口(13)、卸料閥(14)和返料管(15)。
噴嘴(1)為一個或者多個,噴射氣速為10~80 m/s,噴嘴(1)為一個時,所述噴嘴(1)與殼體(3)同軸,噴嘴(1)為多個時,噴嘴(1)處于中心位殼體(3)軸線上的一個圓上,各噴嘴(1)形成的最大外切圓直徑小于多級導流筒的直徑。
所述多級導流筒包含的多個圓柱體的中心線重合,位置處于下方的圓柱體的高度大于等于上方圓柱體的高度。
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