[發(fā)明專利]用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器和臭氧產(chǎn)生器系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110067750.0
• 申請日: 2016-11-11
• 公開（公告）號: CN112899713A
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: P·B·瓊特;M·S·羅斯科;T·A·赫芬頓;庫爾特·J·托馬斯;德里克·艾倫·布朗
• 申請（專利權(quán)）人: 德爾塔閥門公司
• 主分類號: C25B9/19
• 分類號: C25B9/19;C25B1/13;C25B15/023
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 臧微微;韓嫚嫚

本發(fā)明提供用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器和臭氧產(chǎn)生器系統(tǒng)，特別是一種用于與水龍頭一起使用的電解臭氧產(chǎn)生器和組裝和使用所述臭氧產(chǎn)生器的方法。所述臭氧產(chǎn)生器包括：外筒；電解池組件，其被收納于所述外筒內(nèi)，所述電解池組件包括：第一殼；陽極，其耦合到所述第一殼；第二殼；陰極，其耦合到所述第二殼；隔離物，其定位于所述陽極與所述陰極之間；和固持器，其獨(dú)立于所述外筒地將所述第一殼耦合到所述第二殼。

本申請是分案申請，原案的申請?zhí)枮?01610995733.2，申請日為2016年11月11日，發(fā)明名稱為“用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器和臭氧產(chǎn)生器系統(tǒng)”。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器和臭氧產(chǎn)生器系統(tǒng)。更特定來說，本發(fā)明涉及用于與水龍頭一起使用的電解臭氧產(chǎn)生器，和組裝及使用所述臭氧產(chǎn)生器的方法。

背景技術(shù)

電解臭氧產(chǎn)生器可用于在水中產(chǎn)生臭氧。臭氧可通過殺滅水中的細(xì)菌和病原體執(zhí)行有益的殺菌功能。然而，現(xiàn)有臭氧產(chǎn)生器常常難以組裝和維修，且可遭受慢速水流的影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供用于與水龍頭一起使用的電解臭氧產(chǎn)生器，和組裝和使用所述臭氧產(chǎn)生器的方法。本發(fā)明的臭氧產(chǎn)生器易于組裝和維修，且不會遭受慢速水流的影響。

根據(jù)本發(fā)明的說明性實(shí)施例，提供一種用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器，所述臭氧產(chǎn)生器包含外筒和收納于所述外筒內(nèi)的電解池組件。所述電解池組件包含第一殼、耦合到所述第一殼的陽極、第二殼、耦合到所述第二殼的陰極、定位于所述陽極與所述陰極之間的隔離物，和獨(dú)立于所述外筒地將所述第一殼耦合到所述第二殼的固持器。

根據(jù)本發(fā)明的另一說明性實(shí)施例，提供一種用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器，所述臭氧產(chǎn)生器包含第一殼、由所述第一殼包覆模制的第一電流散布器、與所述第一電流散布器電連通的陽極、第二殼、由所述第二殼包覆模制的第二電流散布器、與所述第二電流散布器電連通的陰極，和所述陽極與所述陰極之間的隔離物。

根據(jù)本發(fā)明的又一說明性實(shí)施例，一種用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器系統(tǒng)包含：混合閥，其具有流體地耦合到冷水源的冷水入口、流體地耦合到熱水源的熱水入口，和與所述冷水入口和所述熱水入口選擇性流體連通的出口；和閥主體，其具有第一閥收納腔室、第二閥收納腔室和臭氧產(chǎn)生器收納腔室和出口通路。所述臭氧產(chǎn)生器系統(tǒng)進(jìn)一步包含：收納于所述臭氧產(chǎn)生器收納腔室內(nèi)的臭氧產(chǎn)生器；第一可電操作的閥，其收納于所述第一閥收納腔室內(nèi)且經(jīng)配置以控制從所述混合閥的所述出口到所述閥主體的所述出口通路的水流；和第二可電操作的閥，其收納于所述第二閥收納腔室內(nèi)且經(jīng)配置以控制從所述冷水源到所述臭氧產(chǎn)生器的水流。

根據(jù)本發(fā)明第一方面，提供一種用于與水龍頭一起使用的臭氧產(chǎn)生器，所述臭氧產(chǎn)生器包括外筒和被收納于所述外筒內(nèi)的電解池組件，所述電解池組件包括：第一外殼；陽極，其耦合到所述第一殼；第二殼；陰極，其耦合到所述第二殼；隔離物，其定位于所述陽極與所述陰極之間；和固持器，其獨(dú)立于所述外筒地將所述第一殼耦合到所述第二殼。

優(yōu)選地，所述隔離物具有約20微米到30微米的厚度。

優(yōu)選地，所述隔離物具有約25微米的厚度。

優(yōu)選地，所述陽極和所述陰極各自包括硼摻雜硅底層和硼摻雜金剛石涂層。

優(yōu)選地，所述底層具有約400微米到600微米的厚度。

優(yōu)選地，所述涂層具有約3微米到8微米的厚度。

優(yōu)選地，所述固持器包括繞所述第一殼和所述第二殼的至少一個密封環(huán)。

優(yōu)選地，所述第一殼和所述外筒協(xié)作以界定跨越所述陽極的第一水流路徑；和所述第二殼和所述外筒協(xié)作以界定跨越所述陰極的第二水流路徑。