[發(fā)明專利]一種墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置及其校核方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110062243.8 | 申請日: | 2021-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN112923915B | 公開(公告)日: | 2022-09-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何劍甲;張彥云;郎澤俊;周玖利;宋克坤;堯建敏;馬才良;鄧文;劉海偉;楊猛;李歡;熊峰 | 申請(專利權(quán))人: | 中交第二航務(wù)工程局有限公司 |
| 主分類號: | G01C15/12 | 分類號: | G01C15/12;G01C15/00 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11369 | 代理人: | 李琴 |
| 地址: | 430048 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 模板 控制 垂直 校核 裝置 及其 方法 | ||
1.一種墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置,用于對墩柱安裝位置的垂直度進(jìn)行檢測和校核,其特征在于,所述墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置包括,
激光標(biāo)靶裝置,其設(shè)置位于所述墩柱安裝位置的正上方,以及安裝在激光標(biāo)靶裝置正下方位于墩柱安裝位置的激光垂準(zhǔn)儀,所述激光垂準(zhǔn)儀利用激光垂直照射至所述激光標(biāo)靶,以確定激光垂準(zhǔn)儀在所述墩柱的安裝位置;所述激光標(biāo)靶裝置包括,
激光標(biāo)靶,其為具有一靶心的平面,所述靶心設(shè)置在所述平面的正中,以及圍繞該靶心為原點(diǎn)向周向外圍擴(kuò)散形成靶向坐標(biāo);
其中,所述激光標(biāo)靶上還設(shè)置有第一水平測量裝置,用以測量所述激光標(biāo)靶的水平度;
所述激光標(biāo)靶裝置還包括,邊框,其為兩對條狀連接塊圍設(shè)形成方形,并將所述激光標(biāo)靶固定在內(nèi);
所述激光標(biāo)靶裝置還包括一對連接桿,其水平設(shè)置在所述邊框的其中一側(cè),用于插接或者壓設(shè)在建筑物上以固定所述激光標(biāo)靶;
所述墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置還包括調(diào)節(jié)架,所述調(diào)節(jié)架具有一對套筒,其分別與一對所述連接桿適配插接、以調(diào)節(jié)延伸所述連接桿的長度,一對套筒之間通過一承重柵板連接,用以放置配重塊、用以固定所述激光標(biāo)靶裝置;
所述套筒的底部以及連接桿位于靠近所述激光標(biāo)靶的節(jié)段的底部還分別間隔設(shè)置有一對支撐腳,所述支撐腳為可伸縮裝置,用以支撐固定所述激光標(biāo)靶裝置;
所述墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置還包括,底部支座,其設(shè)置在所述激光垂準(zhǔn)儀的底部,用于調(diào)節(jié)激光垂準(zhǔn)儀的水平度,所述底部支座包括,
承載板,水平設(shè)置,用于支撐放置所述激光垂準(zhǔn)儀;
兩對調(diào)節(jié)桿,其分別豎向支撐在所述承載板的底部四角;所有所述調(diào)節(jié)桿均為伸縮桿,且每一所述伸縮桿的一端通過球鉸鉸接在所述承載板的底部、另一端支撐在地面上;
所述底部支座還包括一吊板,其通過一對連接桿水平吊設(shè)在所述承載板的底部,位于兩對所述調(diào)節(jié)桿圍設(shè)的空間之內(nèi),所述吊板上設(shè)置一第二水平測量裝置,用于測量所述底部支座的水平度;
所述墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置還包括雷達(dá),以及雷達(dá)接收裝置,所述雷達(dá)設(shè)置在所述吊板上,所述雷達(dá)接收裝置設(shè)置在所述激光標(biāo)靶裝置上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置,其特征在于,所述第一水平測量裝置為圓水準(zhǔn)氣泡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置,其特征在于,第二水平測量裝置包括鉛垂線,其包括沿所述吊板的底部等距設(shè)置有若干拉線,以及設(shè)置在鉛垂線遠(yuǎn)離所述吊板的末端的錐形鉛塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墩柱模板偏位、控制垂直度的校核裝置的校核方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S1,安裝所述激光標(biāo)靶裝置以及所述激光垂準(zhǔn)儀,進(jìn)行一次校準(zhǔn),觀測激光垂準(zhǔn)儀的激光光圈位于所述激光標(biāo)靶上的大概坐標(biāo);
步驟S2,對進(jìn)行一次校準(zhǔn)后的所述激光標(biāo)靶裝置以及所述激光垂準(zhǔn)儀進(jìn)行水平位置精調(diào),首先,調(diào)整所述激光標(biāo)靶裝置上的第一水平測量裝置使所述激光標(biāo)靶處于水平狀態(tài)、然后,調(diào)整所述激光垂準(zhǔn)儀上的第二水平測量裝置,使所述第二水平裝置處于水平狀態(tài),然后進(jìn)行二次校準(zhǔn),得到激光垂準(zhǔn)儀放射的光圈位于所述激光標(biāo)靶上的坐標(biāo)。
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