[發明專利]基于VCSEL成像和同軸可視化設計的激光器在審
| 申請號: | 202110059453.1 | 申請日: | 2021-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN112382928A | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發明(設計)人: | 李陽 | 申請(專利權)人: | 北京鐳科光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/183 | 分類號: | H01S5/183;H01S5/022;H01S5/024 |
| 代理公司: | 北京汲智翼成知識產權代理事務所(普通合伙) 11381 | 代理人: | 陳曦;王鵬麗 |
| 地址: | 100192 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 vcsel 成像 同軸 可視化 設計 激光器 | ||
1.一種基于VCSEL成像和同軸可視化設計的激光器,其特征在于,包括:
外殼,限定中空的容納腔;
VCSEL平面陣列光源和熱沉,設置于外殼中;VCSEL平面陣列光源設置在熱沉上且用于發射出VCSEL激光;
成像透鏡,設置于外殼中;且成像透鏡與VCSEL平面陣列光源的主光軸同軸設置,用于對VCSEL激光進行成像;VCSEL平面陣列光源和成像透鏡之間的距離大于成像透鏡的焦距;
平面反射鏡,設置于外殼中;平面反射鏡位于成像透鏡的后方并與VCSEL平面陣列光源的主光軸成α角設置,以使經過成像透鏡的激光發生偏折,并在偏折后的VCSEL激光的主光軸上形成實像,0°α90°;所述平面反射鏡用于對VCSEL激光進行全反射并允許其他波長光線透過;
光學窗口,設置在外殼上,并設置在偏折后的VCSEL激光的實像像點位置;
觀測位置,設置在平面反射鏡遠離成像透鏡和光學窗口的一側,所述觀測位置與偏折后的VCSEL激光的光心軸同軸設置。
2.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:
VCSEL平面陣列光源和成像透鏡之間的距離c,成像透鏡和平面反射鏡之間的距離a,以及平面反射鏡與光學窗口之間的距離b,滿足以下公式:1/(a+b)+1/c=1/f;
其中,f表示成像透鏡的焦距。
3.如權利要求2所述的激光器,其特征在于:
所述成像透鏡的直徑D應滿足以下公式:D≥m+2c×tan(θ/2);其中,m為VCSEL平面陣列光源的光斑直徑,θ為VCSEL平面陣列光源的發散角全角。
4.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:
所述成像透鏡是雙凸透鏡。
5.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:
所述平面反射鏡面向所述成像透鏡的一側表面設置有用于對VCSEL激光進行反射的高反膜。
6.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:
平面反射鏡和VCSEL平面陣列光源的主光軸成45度角設置。
7.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:所述觀測位置設置有CCD成像設備。
8.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:所述觀測位置設置有觀測窗口,或者所述觀測位置設置有觀測窗口和放大鏡的組合。
9.如權利要求1所述的激光器,其特征在于:還包括半導體制冷片和熱管,其中,半導體制冷片的冷端用于對光學窗口進行制冷,所述半導體制冷片的熱端通過所述熱管與所述熱沉進行散熱。
10.如權利要求9所述的激光器,其特征在于:還包括風扇和控制單元,所述風扇設置在所述熱沉下方,用于對所述熱沉進行散熱;所述半導體制冷片、所述VCSEL平面陣列光源和所述風扇分別與所述控制單元電連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京鐳科光電科技有限公司,未經北京鐳科光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110059453.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





