[發明專利]一種防鐳射膜制備方法在審
| 申請號: | 202110053762.8 | 申請日: | 2021-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN112793322A | 公開(公告)日: | 2021-05-14 |
| 發明(設計)人: | 李鵬飛;張旭光;鐘妹 | 申請(專利權)人: | 浙江茉織華印刷股份有限公司 |
| 主分類號: | B41M3/00 | 分類號: | B41M3/00;B41M3/14 |
| 代理公司: | 杭州華鼎知識產權代理事務所(普通合伙) 33217 | 代理人: | 俞宏濤 |
| 地址: | 314205 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鐳射 制備 方法 | ||
1.一種防鐳射膜制備方法,包括基膜,其特征在于:還包括底紋紙,所述底紋紙包括紙張本體和設置在紙張本體上的調幅網點,所述紙張本體上還設有增強圖文折光效果的調整線條,依次包括以下步驟:
步驟一:底紋紙制備:通過調節調幅網點和調整線條的數量來模擬所需的圖文信息;
步驟二:基膜涂布:通過涂布機將涂料均勻的涂布在基膜上,并通過五節烘箱進行烘烤,涂布機的速度為100~120m/min,在每平方PET基膜內所述離型層涂料的涂布量為5.12~6.05g,第一節箱體的溫度比第二節箱體的溫度低20~25%,第三節箱體的溫度比第二節箱體的溫度高10~20%,第四節箱體的溫度等于第三節箱體的溫度,第五節箱體的溫度等于第二節箱體的溫度,第一節箱體的溫度為85~100℃;
步驟三:模壓:將步驟一模擬后的圖文信息壓制在步驟二處理的基膜上,模壓溫度為180~190℃;
步驟四:鍍鋁:在步驟三處理后的基膜上通過真空鍍鋁在基膜表面涂覆一層鋁層,鍍覆時的真空度為1.3×10-2~1.3×10-3Pa,鍍覆時的溫度為1200~1400℃;
步驟五:分切:對步驟四處理后基膜進行分切處理。
2.根據權利要求1所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:步驟一中的通過調節調整網點的大小或形狀或面積來調整圖文信息。
3.根據權利要求1所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:所述調整線條通過油墨印制在紙張本體上。
4.根據權利要求3所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:所述調整線條在紙張本體上呈水平方向或/和豎直方向設置。
5.根據權利要求1所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:步驟二中的涂料包括以下組分組成:25.7~31.4質量份的丙烯酸酯類共聚物、8.03~9.11質量份的乙酸丙酸纖維素、28.06~35.84質量份的醋酸正丙酯和15.21~17.56質量份的正丙醇。
6.根據權利要求1所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:步驟二中五節烘箱的溫度分別為95℃、120℃、135℃、135℃和120℃。
7.根據權利要求1所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:步驟四中鋁層的厚度為280~320埃。
8.根據權利要求1所述的一種防鐳射膜制備方法,其特征在于:步驟五中的基膜通過分切機進行分切處理,且所述分切機通過PLC控制。
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