[發(fā)明專利]一種陶瓷基復(fù)合材料熱解碳PyC界面模型建立及剪切強(qiáng)度預(yù)測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110053066.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112668204A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫志剛;卞杰;劉晉辰;陳西輝;牛序銘;丁俊杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京航空航天大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F30/20 | 分類號(hào): | G06F30/20;G06F113/26;G06F119/14 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陳國強(qiáng) |
| 地址: | 210016 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陶瓷 復(fù)合材料 熱解碳 pyc 界面 模型 建立 剪切 強(qiáng)度 預(yù)測(cè) 方法 | ||
1.一種陶瓷基復(fù)合材料熱解碳PyC界面模型建立及剪切強(qiáng)度預(yù)測(cè)方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟(1)、建立PyC界面有序石墨層單元模型:根據(jù)PyC界面層微觀結(jié)構(gòu)觀測(cè)結(jié)果,計(jì)算碳層間距、碳層的堆疊高度、碳層的大小和碳層的有序度,根據(jù)界面結(jié)構(gòu)參數(shù)建立有序類石墨層單元;
步驟(2)、建立PyC界面三維無序結(jié)構(gòu)模型:考慮PyC界面中無定形自由碳和有序碳層并存的實(shí)際結(jié)構(gòu),將短程有序石墨層單元隨機(jī)組合形成亂層的PyC界面層,然后填充無定形碳直至達(dá)到PyC界面層實(shí)際密度,建立與觀測(cè)結(jié)果一致的三維PyC界面模型;
步驟(3)、建立陶瓷基復(fù)合材料分子動(dòng)力學(xué)模型:在分子動(dòng)力學(xué)模擬軟件MaterialsStudio中建立纖維和基體結(jié)構(gòu)模型,按基體/PyC界面層/纖維的順序組合成初始模型,根據(jù)陶瓷基復(fù)合材料的制備過程,對(duì)初始模型進(jìn)行弛豫,建立陶瓷基復(fù)合材料最終分子動(dòng)力學(xué)模型;
步驟(4)、模擬陶瓷基復(fù)合材料界面剪切過程:采用勢(shì)函數(shù)模擬原子間相互作用,基于纖維推入試驗(yàn)過程,給纖維外側(cè)原子層施加位移載荷,固定基體底部原子層沿位移方向坐標(biāo),給定模型邊界條件,推動(dòng)纖維整體移動(dòng),直至界面完全脫粘,記錄模型的剪切應(yīng)力-應(yīng)變曲線,剪切應(yīng)力-應(yīng)變曲線的最高點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的應(yīng)力值即為PyC界面的剪切強(qiáng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷基復(fù)合材料熱解碳PyC界面模型建立及剪切強(qiáng)度預(yù)測(cè)方法,其特征在于,所述步驟(1)的具體步驟如下:
利用X射線衍射XRD和拉曼光譜Raman觀測(cè)PyC界面微觀結(jié)構(gòu),根據(jù)XRD譜圖和Raman譜圖計(jì)算有序石墨層單元結(jié)構(gòu)參數(shù),計(jì)算公式如下:
其中,d002為碳層間距,λ1為XRD入射光波長(zhǎng),θ為XRD譜圖碳峰衍射峰方位角,Lc為碳層堆積高度,κ為經(jīng)驗(yàn)參數(shù),β為XRD譜圖碳峰半高寬,R為PyC界面的無序度,ID是Raman譜圖石墨D峰強(qiáng)度,IG是Raman譜圖石墨G峰強(qiáng)度,La是石墨碳層微晶寬度,C為經(jīng)驗(yàn)參數(shù);
根據(jù)計(jì)算得到的PyC界面有序石墨層單元的碳層間距、碳層堆積高度和碳層尺寸,在分子動(dòng)力學(xué)模擬軟件Materials Studio的建模模塊中建立有序石墨層單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陶瓷基復(fù)合材料熱解碳PyC界面模型建立及剪切強(qiáng)度預(yù)測(cè)方法,其特征在于,所述步驟(2)的具體步驟如下:
在分子動(dòng)力學(xué)模擬軟件Materials Studio的Amorphous cell建模模塊中,根據(jù)PyC界面層的有序程度,將類石墨層單元隨機(jī)組合,建立短層有序、長(zhǎng)程無序的類石墨亂層界面結(jié)構(gòu),然后在模型中填充無定形碳,直至達(dá)到PyC界面實(shí)際密度,建立實(shí)際PyC界面層三維無序結(jié)構(gòu)模型。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陶瓷基復(fù)合材料熱解碳PyC界面模型建立及剪切強(qiáng)度預(yù)測(cè)方法,其特征在于,所述步驟(3)的具體步驟如下:
根據(jù)陶瓷基復(fù)合材料的纖維和基體原子結(jié)構(gòu),在分子動(dòng)力學(xué)模擬軟件MaterialsStudio建模模塊中建立纖維和基體的純晶體結(jié)構(gòu)模型,由于實(shí)際的纖維和基體并非純晶體;因此通過刪除和替換部分原子,調(diào)整軟件自帶的純晶體結(jié)構(gòu)結(jié)晶度,使纖維和基體晶體結(jié)構(gòu)模型的原子比和晶體結(jié)晶度符合材料測(cè)試結(jié)果;按基體/PyC界面層/纖維的順序?qū)⑺霾襟E(2)中建立的實(shí)際PyC界面層三維無序結(jié)構(gòu)模型和所述步驟(3)中建立的纖維和基體的晶體結(jié)構(gòu)模型組合成陶瓷基復(fù)合材料初始分子動(dòng)力學(xué)模型;
在建立了陶瓷基復(fù)合材料初始分子動(dòng)力學(xué)模型后,基于陶瓷基復(fù)合材料的制備過程,利用分子動(dòng)力學(xué)正則NVT系綜,對(duì)陶瓷基復(fù)合材料初始分子動(dòng)力學(xué)模型進(jìn)行弛豫,將溫度設(shè)置為陶瓷基復(fù)合材料制備過程中PyC典型沉積溫度,進(jìn)行第一次弛豫,之后按40K/ps的速率降溫至室溫,在每個(gè)溫度增量下進(jìn)行分子動(dòng)力學(xué)模擬;最后,在室溫下進(jìn)行二次弛豫,形成陶瓷基復(fù)合材料最終分子動(dòng)力學(xué)模型。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陶瓷基復(fù)合材料熱解碳PyC界面模型建立及剪切強(qiáng)度預(yù)測(cè)方法,其特征在于,所述步驟(4)的具體步驟如下:
以模型長(zhǎng)度方向?yàn)閄軸,寬度方向?yàn)閅軸,高度方向?yàn)閆軸建立直角坐標(biāo)系,模擬陶瓷基復(fù)合材料PyC界面剪切過程,基于纖維推入試驗(yàn)過程,給纖維外側(cè)原子層施加沿X方向位移載荷,推動(dòng)纖維整體移動(dòng);并固定基體底部原子層X方向坐標(biāo),防止陶瓷基復(fù)合材料最終分子動(dòng)力學(xué)模型整體移動(dòng);采用勢(shì)函數(shù)模擬原子間相互作用;在X+和X-面上設(shè)置非周期性邊界條件,在Y+、Y-、Z+和Z+面上設(shè)置周期性邊界條件;纖維移動(dòng)一段距離之后停止施加位移載荷,保持一段時(shí)間之后重復(fù)施加位移載荷,直到界面完全脫黏,并記錄模型的剪切應(yīng)力-應(yīng)變曲線,剪切應(yīng)力-應(yīng)變曲線的最高點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的應(yīng)力值即為預(yù)測(cè)的陶瓷基復(fù)合材料PyC界面剪切強(qiáng)度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京航空航天大學(xué),未經(jīng)南京航空航天大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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