[發明專利]用于分析物的電泳分離和分析的系統和方法在審
| 申請號: | 202110052421.9 | 申請日: | 2016-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN113155936A | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | D·J·羅奇;J·I·莫爾霍;K·加德納;D·C·德蘭;E·賈巴特;D·尼爾森;Y·庫金爾;M·休斯頓;C·B·肯尼迪 | 申請(專利權)人: | 普諾森公司 |
| 主分類號: | G01N27/447 | 分類號: | G01N27/447 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 高文靜 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 分析 電泳 分離 系統 方法 | ||
1.一種用于測定生物樣本的系統,該系統包括:
電泳槽,電泳槽具有凹部區域和至少一個電極;
芯片,芯片被配置為接納生物樣本,芯片能夠部署在凹部區域中,使得芯片的聚合物分離介質的表面與電泳槽的非凹部表面大致齊平;以及
測定設備,測定設備具有:
殼體,
容器,部署在殼體中并且被配置為接納電泳槽,
激活能量源,被配置為當電泳槽在容器中時,向聚合物分離介質供給激活能量;以及
電源,部署在殼體內并且與容器流體隔離,電源被配置為當電泳槽部署在容器中時向所述至少一個電極提供電力以生成跨凹部區域的電場,所述大致齊平的表面可操作以減少電場中的失真。
2.如權利要求1所述的系統,其中激活能量源是紫外輻射源。
3.如權利要求1所述的系統,其中測定設備包括調平傳感器,該調平傳感器被配置為感測凹部區域中的溶液的調平度,其中相對高的調平度導致電場中的相對低的空間擾動程度。
4.如權利要求1所述的系統,還包括:
漂洗夾具,其中漂洗夾具的角度控制緩沖溶液到芯片的流速。
5.如權利要求1所述的系統,其中殼體包括基座和蓋子,容器由基座的內表面定義,以及激活能量源是耦合到蓋子的內表面的輻射能量源。
6.如權利要求5所述的系統,其中殼體定義多個縫隙,所述多個縫隙中的每個縫隙被配置為適應電連接到電源的引腳,其中當至少一個引腳與電泳槽的導電接觸墊相鄰時,形成電連接,其中導電接觸墊電連接到所述至少一個電極。
7.如權利要求6所述的系統,其中所述多個縫隙被配置為適應多種電泳槽形狀因子和多種電極配置中的至少一個。
8.如權利要求6所述的系統,其中測定設備還包括溶液源,溶液源被配置為在電泳槽處于容器內時提供從溶液源到芯片的溶液流動。
9.如權利要求6所述的系統,其中測定設備還包括第一溶液源和第二溶液源,第一溶液源和第二溶液源被配置為當電泳槽位于容器內時分別分開提供第一溶液和第二溶液至芯片。
10.如權利要求1所述的系統,還包括:
導電接觸墊,耦合到所述電泳槽的主體并電連接到所述至少一個電極,所述導電接觸墊被配置為當所述電泳槽部署在所述容器內時電連接到所述測定裝置的電源,以將所述電源電連接到所述至少一個電極。
11.如權利要求1所述的系統,其中所述電泳槽包括堰結構,堰結構部署在凹部區域的至少一側上,堰結構被配置為控制溶液跨凹部區域的流動。
12.如權利要求11所述的系統,其中堰結構被配置為當電泳槽位于容器內時防止氣泡漂浮在芯片的頂表面上方。
13.如權利要求11所述的系統,其中堰結構包括部署在所述電泳槽的所述非凹部表面上方的底表面,所述堰結構被配置成控制所述溶液在所述堰結構的所述底表面下方和跨所述凹部區域的流動。
14.如權利要求1所述的系統,其中所述芯片是可消耗的。
15.如權利要求1所述的系統,其中聚合物分離介質包括在其中形成的多個微孔。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于普諾森公司,未經普諾森公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110052421.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





