[發(fā)明專利]一種用于銅離子回收的電解槽在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110051371.2 | 申請日： | 2021-01-14 |
| 公開（公告）號： | CN112813462A | 公開（公告）日： | 2021-05-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 龍正;歐陽鋒;邰康乾 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇凈拓環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號： | C25C1/12 | 分類號： | C25C1/12;C25C7/06;C23F1/46 |
| 代理公司： | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232 | 代理人： | 黃珩 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 離子 回收 電解槽 | ||
一種用于銅離子回收的電解槽，包括有槽本體，槽本體內(nèi)設(shè)置有陰極板和陽極板，槽本體內(nèi)設(shè)置有添加槽以及排液槽；添加槽包括有儲液槽以及進(jìn)液管，儲液槽設(shè)置在槽本體的側(cè)壁上；排液槽設(shè)置在槽本體的底部，包括有緩沖槽以及與緩沖槽聯(lián)通的排液口，排液口位于陽極板的下方；緩沖槽連接有與槽本體內(nèi)電解液液面高度平齊的液位管，液位管連接有回收管；緩沖槽上設(shè)置的排液口能夠?qū)㈥枠O板附近的電解液吸出，通過減少電解液中不含銅離子的溶液以提高銅離子在電解液中的含量，添加槽能夠及時的補(bǔ)通過與電解液液面高度平齊的液位管，排出槽內(nèi)的電解液會隨添加槽中補(bǔ)充的電解液而排出，保證電解槽內(nèi)電解液的液面高度，保證電解液液面高度的穩(wěn)定性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及資源回收技術(shù)設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種用于銅離子回收的電解槽。
背景技術(shù)
蝕刻液適用于圖形電鍍金屬抗蝕層，如鍍覆金、鎳、錫鉛合金，錫鉛合金及錫的印制板的蝕刻。堿性蝕刻液具有以下特點：蝕刻速率快，側(cè)蝕小，溶銅能力高，蝕刻速率容易控制；蝕刻液可以連續(xù)再生循環(huán)使用，降低了蝕刻成本。
其中再生循環(huán)利用蝕刻液的原理為通過電解的方式將蝕刻液內(nèi)的銅離子還原成單質(zhì)銅，而剩余的蝕刻液又可以重復(fù)被利用，以節(jié)約蝕刻成本，同時還原成的單質(zhì)銅又可以利用起來制作成電路板的基板。目前主要采用旋流電解裝置回收單質(zhì)銅，電解時單質(zhì)銅附著于陰極板上形成銅板，用于銅板吸附于陰極板上。
電解過程中，電解液中的銅離子會富集與陰極板附近以獲得電子被還原成銅單質(zhì)，而隨電解過程電解液中的銅離子含量會降低，影響到銅離子的還原速度，現(xiàn)有技術(shù)存在改進(jìn)之處。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種用于銅離子回收的電解槽，通過回收陽極板附件的電解液的同時添加新的電解液，使電解槽內(nèi)的銅離子維持在一定的濃度。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種用于銅離子回收的電解槽，包括有槽本體、陰極母線以及陽極母線，所述槽本體內(nèi)設(shè)置有與所述陰極母線連接的陰極板和與所述陽極母線連接的陽極板，所述槽本體內(nèi)設(shè)置有用于添加電解液的添加槽以及用于電解液排出的排液槽；所述添加槽包括有沿所述槽本體長度方向設(shè)置的儲液槽以及與所述儲液槽連接的進(jìn)液管，所述儲液槽設(shè)置在所述槽本體的側(cè)壁上；所述排液槽設(shè)置在所述槽本體的底部，包括有緩沖槽以及與所述緩沖槽聯(lián)通的排液口，所述排液口位于所述陽極板的下方；所述緩沖槽連接有與所述槽本體內(nèi)電解液液面高度平齊的液位管，所述液位管連接有回收管。
通過采用上述技術(shù)方案，緩沖槽上設(shè)置的排液口能夠?qū)㈥枠O板附近的電解液吸出，通過減少電解液中不含銅離子的溶液以提高銅離子在電解液中的含量，添加槽能夠及時的補(bǔ)通過與電解液液面高度平齊的液位管，排出槽內(nèi)的電解液會隨添加槽中補(bǔ)充的電解液而排出，保證電解槽內(nèi)電解液的液面高度，保證電解液液面高度的穩(wěn)定性。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為：所述排液口包括有與所述陽極板抵接的接頭，所述接頭包括有支撐本體以及開設(shè)在所述支撐本體上的通孔，所述通孔與所述排液口聯(lián)通。
通過采用上述技術(shù)方案，接頭能夠吸取陽極板表面的電解液，避免吸取的溶液含有大量銅離子，減少銅離子的流失。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為：所述支撐本體的兩側(cè)延伸有與所述陽極板表面兩側(cè)對應(yīng)的卡接部，所述通孔開設(shè)于所述卡接部。
通過采用上述技術(shù)方案，由于電解槽內(nèi)陰極板、陽極板的分隔，電解槽內(nèi)的電解液流動性相對較差，位于卡接部的通孔能夠吸取陽極板兩側(cè)的電解液，使電解槽內(nèi)局部的電解液同步下降，避免電解槽內(nèi)液位過高，同時減少了電解槽內(nèi)電解液在兩陽極板之間的流動，減少電解液的流動對銅離子析出的影響。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為：所述卡接部與所述陽極板的板面貼合，所述通孔沿所述卡接部的長度方向呈線性均勻排布。
通過采用上述技術(shù)方案，使通孔更加貼合陽極板的表面，進(jìn)一步減少銅離子的流失。
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