[發明專利]一種光學膜缺點噴印裝置

在審

• 申請號: 202110047711.4
• 申請日: 2021-01-14
• 公開（公告）號: CN112874163A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 李杰;嚴兵華;謝佳;翟攀攀
• 申請（專利權）人: 恒美光電股份有限公司
• 主分類號: B41J2/01
• 分類號: B41J2/01;B41J3/407;B41J3/44;G01N21/01;G01N21/956
• 代理公司: 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235
• 代理人: 楊林潔

1.一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：包括自動光學檢查機(1)、缺點爆量處理裝置(2)、伺服馬達行程裝置(3)、噴墨裝置、查看章型裝置和控制系統，其中，

所述自動光學檢查機(1)設置在所述缺點爆量處理裝置(2)的前方，用于檢測光學膜缺點位置及缺點類型，并以TCP/IP協議傳輸至所述控制系統，通過所述控制系統平均分配至所述噴墨裝置；

所述缺點爆量處理裝置(2)設置在所述自動光學檢查機(1)與所述伺服馬達行程裝置(3)之間，用于控制光學膜從所述自動光學檢查機到所述噴墨裝置的行程時間；

所述噴墨裝置設置在所述伺服馬達行程裝置(3)下方，用于對光學膜缺點進行排班噴印；

所述查看章型裝置設置在所述伺服馬達行程裝置(3)的后方，用于查看噴印章型清晰度；

所述控制系統分別與所述自動光學檢查機(1)、缺點爆量處理裝置(2)、伺服馬達行程裝置(3)、噴墨裝置和查看章型裝置電性連接，用于控制所述自動光學檢查機(1)、缺點爆量處理裝置(2)、伺服馬達行程裝置(3)、噴墨裝置和查看章型裝置。

2.根據權利要求1所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：所述缺點噴印裝置在設定的區域范圍內合并或丟棄缺點，優選地，所述缺點噴印裝置在至少31.5寸光學膜上噴印大于1顆章型。

3.根據權利要求1所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于，所述缺點爆量處理裝置(2)至少包括2個導輥，用于控制光學膜從所述自動光學檢查機到所述噴墨裝置的行程時間大于10秒，優選地，所述缺點爆量處理裝置(2)包括2～10個導輥。

4.根據權利要求1所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：所述噴墨裝置根據所述自動光學檢查機(1)檢測出的缺點類型噴印不同的章型。

5.根據權利要求1所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：所述伺服馬達行程裝置(3)上設有至少5條行程軌道，每條行程軌道上設有2個噴墨裝置，優選地，所述伺服馬達行程裝置(3)上設有5～10條行程軌道。

6.根據權利要求5所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：當所述自動光學檢查機(1)檢測到缺點時，所述伺服馬達行程裝置(3)提前將所述噴墨裝置移動到相對應的缺點位置。

7.根據權利要求1～6任一項所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：所述噴墨裝置包括噴頭裝置(4)和卡扣在所述噴頭裝置(4)上的墨盒裝置(5)，所述噴頭裝置(4)與所述控制系統電性連接。

8.根據權利要求7所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：所述噴頭裝置(4)與所述控制系統通過坦克鏈串接連接。

9.根據權利要求7所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征在于：所述噴頭裝置(4)上設有插針，所述噴頭裝置(4)通過所述插針與所述墨盒裝置(5)連接及通訊指令傳輸。

10.根據權利要求1所述的一種光學膜缺點噴印裝置，其特征就在于：所述查看章型裝置包括查看章型行程裝置(7)以及設置在所述查看章型行程裝置(7)上的查看章型相機裝置(6)，優選地，所述查看章型裝置至少包括兩組查看章型相機裝置(6)。