[發明專利]一種雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法

有效

• 申請號: 202110044550.3
• 申請日: 2021-01-13
• 公開（公告）號: CN112859159B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 袁浩偉;陳書平;戴鹍;李茜;趙懷博;黃學堯;王信棚;肖壯;勾琪瑋;馮桂民;徐世東
• 申請（專利權）人: 中國石油大學(北京)
• 主分類號: G01V1/28
• 分類號: G01V1/28;G01V1/30
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129
• 代理人: 朱亞娜

1.一種雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1，結合鉆井資料和測井資料，對地震資料中走滑帶內各地層進行層位標定，并在地震資料的地震剖面圖中進行走滑帶內各走滑斷層兩盤各個地層的層位解釋，得到初級標定地震剖面圖，進而確定走滑帶內各走滑斷層的初級剖面分布特征；所述走滑帶內走滑斷層的初級剖面分布特征包括走滑斷層的走向及走滑帶內主要走滑活動變形期；

S2，制作走滑帶內沉積地層的沿層相干體屬性圖，基于所述沿層相干體屬性圖，結合所述初級標定地震剖面圖，明確走滑帶在該沉積地層的初級平面分布特征并繪制該沉積地層的初級走滑帶平面分布圖；并進一步細化所述初級標定地震剖面圖中走滑帶內各走滑斷層上下盤層位發育特征，得到精細標定地震剖面圖；繼而根據所述精細標定地震剖面圖反饋調整所述初級走滑帶平面分布圖得到精細走滑帶平面分布圖，其中走滑帶在該沉積地層的平面分布特征包括該沉積地層上各走滑斷層的走向和各走滑斷層的相對位置關系；

S3，根據走滑帶在該沉積地層的平面分布特征中的各走滑斷層的走向，在所述精細標定地震剖面圖中，得到走滑斷層在活動期沿傾向的水平平錯量Li；i表示走滑斷層標號，所述傾向為垂直于所述走滑斷層走向的方向；

S4，通過所述精細走滑帶平面分布圖中走滑帶在該沉積地層的平面特征，確定走滑帶走向；則走滑帶在該活動時期的總走滑位移量為∑(Li/sinαi)；其中，α為走滑斷層走向與走滑帶走向的夾角。

2.根據權利要求1所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S2中，制作走滑帶內某些沉積地層的沿層相干體屬性圖，具體包括：根據實際活動期某些沉積地層的厚度，對沉積地層頂面上下分別選取合適寬度的時窗進行相干體屬性提取，進而獲得沉積地層頂面的沿層相干體屬性圖。

3.根據權利要求2所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S2中，結合的所述初級標定地震剖面圖至少包括多個初級垂切標定地震剖面圖，所述初級垂切標定地震剖面圖為初級標定地震剖面圖中垂直切過所述走滑斷層的初級剖面分布特征中的走滑斷層走向的剖面圖。

4.根據權利要求3所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S2中，明確走滑帶在該沉積地層的平面分布特征，具體包括：使用所述初級垂切標定地震剖面圖對所述沿層相干體屬性圖上顯示的走滑斷層的平面分布重新厘定，進而得到走滑帶在該沉積地層頂面的平面分布特征；走滑帶在該沉積地層頂面的平面分布特征包括該沉積地層頂面上各走滑斷層的走向和各走滑斷層的相對位置關系。

5.根據權利要求4所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S2中，進一步細化所述初級標定地震剖面圖中走滑帶內各走滑斷層上下盤層位發育特征，得到精細標定地震剖面圖，具體包括：對所述初級標定剖面圖中至少所述初級垂切標定地震剖面圖的走滑斷層上下盤層位發育特征，通過所述走滑帶平面分布圖進行反饋調整并精細刻畫，得到精細標定地震剖面圖。

6.根據權利要求4或5所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S3中，所述走滑斷層在活動期沿傾向的水平平錯量Li為活動期沉積地層頂面在走滑斷層上下盤間的水平平錯量。

7.根據權利要求4或5所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S4中，確定走滑帶走向具體包括：在所述精細走滑帶平面分布圖上，運用試錯法，當走滑帶中各走滑斷層的走向與某一方向的夾角趨于一致時，該方向即為走滑帶走向。

8.根據權利要求7所述雁列式正斷層走滑帶走滑位移量的計算方法，其特征在于，所述S4中，走滑帶在該活動時期的總走滑位移量為∑(Li/sinα)，具體包括：在所述精細走滑帶平面分布圖中，根據各走滑斷層走向與走滑帶走向的夾角α，確定走滑帶在走滑斷層的走滑分量Si＝Li/sinαi，則走滑帶在該活動時期總走滑位移量即為∑(Si)。