[發明專利]一種以水氯鎂石為原料制備工業級氧化鎂的方法在審
| 申請號： | 202110043982.2 | 申請日： | 2021-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN112624162A | 公開（公告）日： | 2021-04-09 |
| 發明（設計）人： | 唐忠鋒;劉偉華;李萍;高莉;王建強;錢淵;曹云;王子睿 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海應用物理研究所 |
| 主分類號： | C01F5/06 | 分類號： | C01F5/06 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人： | 宋麗榮 |
| 地址： | 201800 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 水氯鎂石 原料 制備 工業 氧化鎂 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種以水氯鎂石為原料制備工業級氧化鎂的方法，其特征在于，該方法包括將水氯鎂石以5℃/min～15℃/min的升溫速率加熱到527℃～800℃煅燒0.5h～5h，得到工業級氧化鎂。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，水氯鎂石為鹽湖提鉀廢物水氯鎂石。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在密閉條件或敞開條件下進行煅燒步驟。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，煅燒溫度為650℃-800℃。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，升溫速率為5℃/min-10℃/min。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，煅燒時間為2h-3h。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，該方法還包括水洗過濾除去工業級氧化鎂中的水溶性離子。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，水溶性離子為K+和/或Na+。
9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，該方法還包括采用乙二胺四乙酸二鈉容量法滴定Mg2+濃度，從而計算工業級氧化鎂中的氧化鎂純度。
10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，配置濃度在0.0210～0.0250mol/L之間的乙二胺四乙酸二鈉標準滴定溶液進行滴定。
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