[發明專利]對放射治療系統進行規劃的方法及射野布置裝置

有效

• 申請號: 202110040599.1
• 申請日: 2021-01-13
• 公開（公告）號: CN112915403B
• 公開（公告）日: 2023-01-24
• 發明（設計）人: 戴建榮;徐英杰
• 申請（專利權）人: 中國醫學科學院腫瘤醫院
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京市正見永申律師事務所 11497
• 代理人: 黃小臨;馮玉清

提供了一種對放射治療系統進行規劃的方法及射野布置裝置。該方法包括以下步驟：對多葉準直器進行配置，使得多葉準直器的葉片運動方向和機架旋轉方向垂直；將患者的所有靶區在射野方向觀(BEV)上的投影沿著所述葉片的運動方向分區成多個子區；以及確定所述射線束的照射寬度，每個照射寬度與所述多個子區中的每個子區相對應。通過對靶區進行分區布野，縮小了射野中每個子野的照射范圍，而且能去除由于所有靶區共享多葉準直器(MLC)葉片對而造成的靶區間正常組織受到不必要照射的情況，減少正常組織照射劑量，獲得更優的劑量分布。

技術領域

本發明總體上涉及醫學技術領域，更特別地，涉及一種對放射治療系統進行規劃的方法及射野布置裝置。

背景技術

腫瘤患者可能會存在同時出現多個腫瘤靶區的情況，例如多發轉移的情況。對于這種多靶區腫瘤，現有的照射模式主要可分為兩種，一種方式是僅對這些靶區進行照射，另一種方式是在照射這些靶區的同時，照射這些靶區所處的區域，例如在照射顱內轉移灶靶區的同時照射全腦。

對于第一種方式，過去多采用多中心的照射模式，即一個等中心對應一個靶區進行照射。在這種照射模式下，由于需要對每個靶區的射野進行規劃，計劃復雜度高；治療時需要更換等中心治療時間長。現多采用單等中心照射所有靶區的模式，此時，容易出現相鄰靶區間共享多葉準直器(MLC)葉片對的情形，靶區之間的正常組織也可能會受到不必要的照射。

對于第二種方式，現有技術一般采用單中心同步加量處方劑量模式。當加量靶區的數量較少時，治療計劃設計難度小，針對腫瘤灶的較高處方劑量能較好地包繞靶區，且快速跌落到較低處方劑量；但當加量靶區的數量較多時，計劃難度隨之增加，針對加量靶區的較高處方劑量容易相互連接，使得本只需要低處方劑量的區域均受到較高劑量處方劑量的照射，極大增加了副反應的發生幾率，這樣的計劃無法被臨床所接受。

因此，若需要獲得臨床可接受的計劃，需改進計劃設計方法。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明提供一種對放射治療系統進行規劃的方法及射野布置裝置，可針對所有靶區的照射進行規劃布置射野，以有效減少正常組織照射范圍、獲得更優的劑量分布。

根據一示例性實施例，提供一種放射治療系統進行規劃的方法，其中，所述放射治療系統至少包括機架和用于調整射線束照射野的多葉準直器，所述方法可包括：

對所述多葉準直器進行配置，使得多葉準直器的葉片運動方向和機架旋轉方向垂直；

將患者組織的所有靶區在射野方向觀(BEV)上的投影沿著所述葉片的運動方向分區成多個子區；以及

確定所述射線束輸送到所述所有靶區的照射寬度，每個照射寬度與所述多個子區中的每個子區相對應。

在一種實施方式中，對所述多葉準直器進行配置可包括設置所述多葉準直器的角度以保證葉片運動方向垂直于機架旋轉方向。

在一種實施方式中，將所述所有靶區沿著所述葉片的運動方向分區成多個子區可包括：以所述所有靶區在射野方向觀(BEV)上的位置為參考，根據所述所有靶區的個數和/或分布將所述所有靶區分區為多個子區。

在一種實施方式中，所述方法還可包括：對治療床的床角進行配置；然后將所述所有靶區在BEV上的投影沿著所述葉片的運行方向進行重新分區成多個子區；以及重新確定所述射線束輸送到所述所有靶區的照射寬度，每個照射寬度與重新分區的多個子區中的每個子區相對應。

在一種實施方式中，所述每個照射寬度可為相對應的子區外擴一定邊界后的范圍所確定的寬度。

在一種實施方式中，所述放射治療系統配置有葉片運動方向相互垂直的兩個多葉準直器，對所述多葉準直器進行配置可包括使得其中一個多葉準直器的葉片運動方向垂直于機架旋轉方向，所述分區成多個子區可包括將所述所有靶區沿著所述其中一個多葉準直器的葉片的運動方向進行分區。