[發明專利]薄膜形成裝置以及用于形成薄膜的自由基單元

有效

• 申請號: 202110040197.1
• 申請日: 2021-01-13
• 公開（公告）號: CN113151805B
• 公開（公告）日: 2023-05-09
• 發明（設計）人: 申東和;金容源
• 申請（專利權）人: EQ泰科普勒斯株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 李盛泉;孫昌浩

1.一種薄膜形成裝置，其特征在于，包括：

腔室；

多個氣體流入部，在上述腔室的上部形成，接收用于自由基反應的至少兩種反應氣體和前體；以及

自由基單元，通過使從上述氣體流入部供給的反應氣體產生反應來生成自由基，通過向下部噴射上述自由基和前體來在基板沉積薄膜，

其中，上述自由基單元由多個板形成，前體噴射路徑被配置為在多個上述板中的頂部板中，通過比上述氣體流入部的前體噴射路徑多的多個路徑分配前體后使前體從自由基單元噴射，反應氣體噴射路徑與上述前體噴射路徑互不重疊。

2.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

上述前體噴射路徑被配置為如下形式：在上述頂部板水平分配上述前體后，通過垂直貫通剩余的至少一個板來噴射。

3.根據權利要求2所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

在上述頂部板，上述前體噴射路徑以上述前體所流入的上述頂部板的中心為起點呈放射狀結構。

4.根據權利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

在上述頂部呈放射狀的上述前體噴射路徑被配置為具有預定長度的多個一字型管分別共享中心并交叉的形式，在各個上述一字型管上以規定間隔隔開形成有排出孔，各個上述排出孔通過垂直貫通剩余的板來進行上述前體的噴射。

5.根據權利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

在位于分配上述前體的層下方的上述板，向上述反應氣體噴射路徑分配上述反應氣體。

6.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

通過上述反應氣體噴射路徑分配上述反應氣體的上述板呈多個淋浴噴頭結構。

7.根據權利要求6所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

上述多個淋浴噴頭結構由兩個以上的上述板形成，形成于上述板的排出孔配置在相互錯開的位置。

8.根據權利要求7所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

在形成上述反應氣體噴射路徑的多個板中，位于中間的規定的板形成能夠混合從多個上述氣體流入部流入的互不相同的反應氣體的空間。

9.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

自由基單元呈第一板、第二板、第三板、第四板、第五板、第六板、第七板依次層疊的形態，上述自由基單元以與頂部層相對應的上述第一板至與底部層相對應的上述第七板相互層疊的形態結合而成。

10.根據權利要求9所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

注入上述前體的第一氣體流入部形成于上述第一板的上面部中心，以垂直貫通上述第一板的方式形成。

11.根據權利要求10所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

在上述第一板內部水平設置有具有預設的放射狀結構的第一前體噴射路徑，上述第一前體噴射路徑與上述第一氣體流入部相連接，用于分配注入的上述前體，

在上述第一前體噴射路徑以預設間隔形成有用于排出上述前體的多個排出孔。

12.根據權利要求11所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

包括與設置在上述第一前體噴射路徑的多個排出孔垂直連接的第二前體噴射路徑，

上述第二前體噴射路徑具有垂直貫通上述第二板至第六板來與用于排出設置于上述第七板的上述前體的排出孔相連接的結構。

13.根據權利要求9所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

注入上述反應氣體的第二氣體流入部在上述第一板的上面部的預設位置形成有多個，具有通過垂直貫通上述第一板至第二板來與用于分配反應氣體的上述第三板相連接的結構。