[發(fā)明專利]一種用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110040105.X
• 申請日: 2021-01-13
• 公開（公告）號: CN112887021A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦毅;王福杰;任斌;郭芳;胡耀華;姚智偉
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞理工學(xué)院
• 主分類號: H04B10/11
• 分類號: H04B10/11;H04B10/50;G02B26/08
• 代理公司: 北京欣鼎專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11834
• 代理人: 王陽虹

1.一種用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置，包括微反射鏡陣列、調(diào)節(jié)模塊和探測模塊，所述微反射鏡陣列由2×2的傾斜鏡組成，且所述2×2的傾斜鏡位于光通信系統(tǒng)接收天線的光學(xué)焦面上，所述調(diào)節(jié)模塊與所述2×2的傾斜鏡連接；

所述微反射鏡陣列接收自由空間光通信中的激光載波信號光束，并將所述激光載波信號光束反射至所述探測模塊；

所述調(diào)節(jié)模塊調(diào)節(jié)所述微反射鏡陣列中的任意一塊傾斜鏡，將四分之三的所述激光載波信號光束反射至所述探測模塊；

所述探測模塊根據(jù)接收到的四分之三的激光載波信號光束的光強計算所述激光載波信號光束的相位信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置，其特征在于，所述探測模塊包括依次連接的信號強度計算子模塊、局部傾斜計算子模塊和波前重構(gòu)子模塊，

所述信號強度計算子模塊根據(jù)接收到的四分之三的激光載波信號光束的光強計算x方向的信號強度和y方向的信號強度；

所述局部傾斜計算子模塊根據(jù)所述x方向的信號強度和所述y方向的信號強度計算所述激光載波信號光束的局部傾斜；

所述波前重構(gòu)子模塊根據(jù)所述激光載波信號光束的局部傾斜重構(gòu)所述激光載波信號光束的波前，獲得所述激光載波信號光束的相位信息。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置，其特征在于，

所述2×2的傾斜鏡為2×2的高速壓電偏轉(zhuǎn)鏡。

4.一種基于權(quán)利要求1所述的用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置的用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置，其特征在于，包括以下步驟：

微反射鏡陣列接收自由空間光通信中的激光載波信號光束，并將所述激光載波信號光束反射至探測模塊，所述微反射鏡陣列由2×2的傾斜鏡組成，且所述2×2的傾斜鏡位于光通信系統(tǒng)接收天線的光學(xué)焦面上；

調(diào)節(jié)所述微反射鏡陣列中的任意一塊傾斜鏡，將四分之三的所述激光載波信號光束反射至探測模塊；

所述探測模塊根據(jù)接收到的四分之三的所述激光載波信號光束的光強計算所述激光載波信號光束的相位信息。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置，其特征在于，所述探測模塊根據(jù)接收到的四分之三的激光載波信號光強計算所述激光載波信號的相位信息的過程包括以下步驟：

根據(jù)接收到的四分之三的激光載波信號光束的光強計算x方向的信號強度和y方向的信號強度；

根據(jù)所述x方向的信號強度和所述y方向的信號強度計算所述激光載波信號光束的局部傾斜；

根據(jù)所述激光載波信號光束的局部傾斜重構(gòu)所述激光載波信號光束的波前，獲得所述激光載波信號光束的相位信息。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的用于體全息成像的MEMS微反射的處理裝置，其特征在于，所述2×2的傾斜鏡為2×2的高速壓電偏轉(zhuǎn)鏡。