[發(fā)明專利]用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置及工作方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110036146.1
• 申請日: 2021-01-12
• 公開（公告）號: CN112877658A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發(fā)明（設計）人: 田野;褚克;王偉平;王星;黨玲巖
• 申請（專利權(quán)）人: 河北北方學院
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 李興林

1.用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置，其特征在于：包括鍍膜室、設置在所述鍍膜室上并用于與真空泵和管道進行密封連通的真空法蘭管、安裝在所述鍍膜室內(nèi)部的轉(zhuǎn)動軸、以及安裝在所述轉(zhuǎn)動軸上的多個用于放置待鍍膜件的轉(zhuǎn)盤、設置在所述鍍膜室內(nèi)并對稱安裝在所述轉(zhuǎn)動軸兩側(cè)的第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶；

在所述鍍膜室上設置有對所述第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶進行冷卻降溫的冷卻系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求所述的用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置，其特征在于：所述鍍膜室為密封圓筒結(jié)構(gòu)，在其側(cè)壁上開設有密封門。

3.根據(jù)權(quán)利要求所述的用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置，其特征在于：在所述鍍膜室的側(cè)壁上設置有觀察窗，在所述鍍膜室的頂部設置有旋轉(zhuǎn)工作架，在所述旋轉(zhuǎn)工作架上設置有用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動的減速驅(qū)動電機。

4.根據(jù)權(quán)利要求所述的用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置，其特征在于：所述冷卻系統(tǒng)包括分別用于安裝所述第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶的防護隔板、以及安裝在所述防護隔板背面的冷卻管。

5.根據(jù)權(quán)利要求所述的用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置，其特征在于：所述冷卻管折疊盤繞在所述防護隔板上，在所述冷卻管最底部為冷卻進口，最頂部為冷卻出口；在所述冷卻管內(nèi)通過冷氣或冷卻液。

6.根據(jù)權(quán)利要求所述的用于金屬復合材料表面鍍層的磁控噴射裝置，其特征在于：所述第一磁控濺射對靶和所述第二磁控濺射對靶均是金屬靶，并由一個中頻電源或兩個相對獨立的直流脈沖電源供電；在所述鍍膜室內(nèi)并位于所述第一磁控濺射對靶和所述第二磁控濺射對靶的兩側(cè)設置有鍍層磁控濺射靶。

7.一種磁控噴射裝置的工作方法，其特征在于：

首先，通過打開鍍膜室上的密封門，將待鍍膜件放置在所述轉(zhuǎn)盤上，接著關(guān)閉密封門，同時利用減速驅(qū)動電機帶動安裝在鍍膜室內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動；

開啟第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶，然后對轉(zhuǎn)盤上的待鍍膜件進行磁控濺射鍍層；

其中在第一磁控濺射對靶和第二磁控濺射對靶工作時，會在防護隔板上產(chǎn)生大量的熱量，通過在防護隔板的背面安裝冷卻管，對防護隔板進行降溫。