[發明專利]一種提高卟啉ECL體系發光強度的方法

在審

• 申請號: 202110035896.7
• 申請日: 2021-01-12
• 公開（公告）號: CN112903771A
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發明（設計）人: 盧小泉;王菊霞;孫璐;劉秀娟;張鵬萍;唐淑園;趙睿;焦小梅;白蕾;韓振剛
• 申請（專利權）人: 西北師范大學
• 主分類號: G01N27/30
• 分類號: G01N27/30;G01N21/76
• 代理公司: 北京中恒高博知識產權代理有限公司 11249
• 代理人: 夏晏平

1.一種提高卟啉ECL體系發光強度的方法，其特征在于，將光敏劑四羧基苯基卟啉溶于水中，加入含有共反應劑K₂S₂O₈的磷酸鹽緩沖溶液中，再加入重水D₂O，得到能夠提高發光強度的四羧基苯基卟啉/D₂O-K₂S₂O₈的陰極電化學發光體系。

2.根據權利要求1所述的提高卟啉ECL體系發光強度的方法，其特征在于，所述方法的步驟如下：

(1)將四羧基苯基卟啉溶于水中，以K₂S₂O₈作為共反應劑，以磷酸鹽緩沖溶液作為支持電解質，將四羧基苯基卟啉水溶液加入含有K₂S₂O₈的磷酸鹽緩沖溶液中，再加入重水D₂O，得四羧基苯基卟啉/D₂O-K₂S₂O₈陰極電化學發光體系；

(2)采用傳統的三電極體系：裸的玻碳電極作為工作電極，Ag/AgCl電極作為參比電極，鉑柱電極作為對電極，測定發光體系的ECL強度。

3.根據權利要求2所述的提高卟啉ECL體系發光強度的方法，其特征在于，步驟(1)中，所述含有K₂S₂O₈的磷酸鹽緩沖溶液的pH為7.0，K₂S₂O₈濃度為0.1mol/L，所述發光體系中四羧基苯基卟啉的濃度為30μmol/L，重水D₂O的濃度為0.32μmol/L。

4.根據權利要求2所述的提高卟啉ECL體系發光強度的方法，其特征在于，步驟(2)中，測定發光體系ECL強度的掃描條件為pH值7.0、掃速0.15V/S、電位窗在0～-1.2V。