[發明專利]一種基于鍍層與熱擴散退火制備TiNi形狀記憶合金箔材的方法

有效

• 申請號: 202110035318.3
• 申請日: 2021-01-12
• 公開（公告）號: CN112877620B
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發明（設計）人: 左舜貴;許鐸;孫家麟
• 申請（專利權）人: 鎮江柏思智能材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 陳建和

1.一種基于鍍鎳與熱擴散退火制備TiNi形狀記憶合金箔材的方法，其特征在于，以純鈦箔材為基底，在上面鍍以純鎳；再在真空或者惰性氣體保護環境下進行熱擴散退火，最后形成鈦鎳形狀記憶合金箔材；

所述純鈦箔材基底的厚度在0.001毫米~0.2毫米之間；

所制備的TiNi形狀記憶合金箔材的最終成分范圍為鈦的質量百分比為46.9%~43.0%，鎳的質量百分比為53.1%~57.0%，通過控制單位面積鍍鎳層與鈦箔的質量百分比以控制最終合金成分；

通過控制單位面積鍍鎳層，通過鍍鎳的時間和鍍速控制鍍鎳量與鈦箔的質量百分比以控制最終合金成分；

所述TiNi形狀記憶合金箔材的制備方法包括熱擴散退火這一步驟，所述熱擴散退火在真空或者惰性氣體保護環境下進行，所述惰性氣體為氦氣、氬氣、氖氣或者三者之間的混合氣；所述熱擴散退火溫度為500°C~1200°C之間的某一溫度，退火時間為4小時以上。

2.根據權利要求1所述的一種基于鍍鎳與熱擴散退火制備TiNi形狀記憶合金箔材的方法，其特征在于：所述鍍鎳方法是電化學鍍鎳，或物理氣相沉積法鍍鎳。

3.根據權利要求2所述的一種基于鍍鎳與熱擴散退火制備TiNi形狀記憶合金箔材的方法，其特征在于：所述物理氣相沉積法是離子鍍膜鍍鎳方法，包括CVD、粉末金屬覆蓋、真空蒸發、離子束鍍。

4.根據權利要求1所述的一種基于鍍鎳與熱擴散退火制備TiNi形狀記憶合金箔材的方法，其特征在于：所述熱擴散退火時間取決于箔材的厚度，厚度越厚，相同的溫度下所需退火時間越長。