[發(fā)明專利]真空絕熱體有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110032077.7 | 申請(qǐng)日： | 2016-08-02 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112629135B | 公開（公告）日： | 2022-12-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 丁元榮;尹德鉉;金大雄 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | LG電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | F25D23/08 | 分類號(hào)： | F25D23/08;F25B13/00;F25D23/06;F25D23/02 |
| 代理公司： | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人： | 付永莉;鄭特強(qiáng) |
| 地址： | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 真空 絕熱 | ||
1.一種真空絕熱體，包括：
第一板，具有第一溫度；
第二板，具有第二溫度，所述第二溫度不同于所述第一溫度；
密封部，密封所述第一板和所述第二板，以提供處于真空狀態(tài)的空間；
支撐部，設(shè)置在所述空間中以保持所述空間中的間隙；
側(cè)框架，包括第一表面和第二表面，所述側(cè)框架的一側(cè)連接到抗傳導(dǎo)片，所述側(cè)框架的另一側(cè)連接到所述第二板；
其中，所述支撐部設(shè)置為接觸所述側(cè)框架，以及
其中，還包括如下(a)、(b)、(c)中的至少一個(gè)特征，
(a)所述支撐部包括在大致垂直于所述第一板和所述第二板的方向上延伸的桿，以支撐所述第一板和所述第二板之間的距離，以及支撐板，設(shè)置在所述桿的至少一端，并且所述側(cè)框架設(shè)置在所述桿的至少另一端；
(b)一附件未安裝在所述側(cè)框架的一側(cè)而安裝在所述側(cè)框架的另一側(cè)；
(c)所述側(cè)框架的一側(cè)的高度不同于所述側(cè)框架的另一側(cè)的高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空絕熱體，其中，所述側(cè)框架包括從所述真空絕熱體的主體部朝向所述真空絕熱體的側(cè)部延伸的部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空絕熱體，其中，所述側(cè)框架包括朝向所述真空絕熱體的后部延伸的部分，以及所述第二表面設(shè)置為朝向所述真空絕熱體的前部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空絕熱體，其中，所述支撐部包括：從所述第一板延伸到所述第二板的桿，或者設(shè)置在所述桿的至少一端的支撐板，或者所述空間內(nèi)的多孔材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空絕熱體，其中，所述支撐板將至少兩個(gè)桿彼此連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空絕熱體，其中，所述側(cè)框架設(shè)置為接觸所述桿。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空絕熱體，其中，所述桿接觸所述側(cè)框架的一部分，該部分從所述真空絕熱體的主體部朝向所述真空絕熱體的側(cè)部延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空絕熱體，其中，所述桿接觸所述支撐板，接觸所述支撐板的所述桿不接觸所述第一板或所述第二板。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空絕熱體，其中，所述桿鄰近所述支撐板的遠(yuǎn)端邊緣設(shè)置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空絕熱體，其中，所述側(cè)框架設(shè)置為接觸支撐板。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空絕熱體，其中，所述支撐板接觸所述側(cè)框架的一部分，該部分朝向所述真空絕熱體的后部延伸，且所述第二表面設(shè)置為朝向所述真空絕熱體的前部。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空絕熱體，其中，所述第二表面沿著所述支撐板的延伸方向延伸。
13.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空絕熱體，其中，所述側(cè)框架設(shè)置為接觸所述多孔材料，所述多孔材料設(shè)置在所述空間內(nèi)，以及所述多孔材料接觸所述側(cè)框架的一部分，該部分朝向所述真空絕熱體的后部延伸，以及所述第二表面設(shè)置為朝向所述真空絕熱體的前部。
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