[發明專利]一種工業設備用顯影液在審
| 申請號: | 202110031892.1 | 申請日: | 2021-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN112782946A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發明(設計)人: | 李趙玉;武威 | 申請(專利權)人: | 天津華源化工有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/32 | 分類號: | G03F7/32 |
| 代理公司: | 天津市科航尚博專利代理事務所(普通合伙) 12234 | 代理人: | 吳疆 |
| 地址: | 301600 天津市*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 工業 備用 顯影液 | ||
本發明公開了一種工業設備用顯影液,屬于顯影液領域,包括包括如下重量份的原料,純水30?50份、KOH10?15份、表面活性劑25?40份、辛酸8?12份。本方案通過使用更為純凈的蒸餾水或除去沉淀雜質的沸水,減少顯影液的氧化,采用水溶性更好的磺酸鹽型表面活性劑,該表面活性劑滲透快速均勻,乳化、發泡性能好,提高了顯影液的生產效率,通過控制加入KOH的量來控制顯影液的濃度,繼而提高產品適用度,使得顯影的成影效果更好,生產流程也相對于現有的工藝更加環保。
技術領域
本發明涉及顯影液領域,更具體地說,涉及一種工業設備用顯影液。
背景技術
顯影液是一種重要的濕電子化學品,也是半導體、顯示面板、太陽能電池制作過程中關鍵的原材料之一。顯影液質量的優劣,直接影響電子產品的質量,電子行業對顯影液的一般要求是超凈和高純。半導體、顯示面板、太陽能電池等行業發展速度快,屬于國家大力發展的戰略新興行業。顯影液的市場需求會隨著這些行業的快速發展而不斷增長。
顯影是指感光材料曝光產生潛影之后,在顯影液中進行一段時間處理,產生可見銀影像的過程。顯影過程是一個氧化還原反應,反應的實質是使銀離子還原為黑色的金屬銀。反應中的還原劑就是顯影液中的顯影劑。顯影作用一般都是在曝光的鹵化銀微晶上進行。這是由于曝光的鹵化銀晶體上形成了顯影中心,顯影中心在顯影的化學反應中是一個催化劑。因此,顯影過程總是從顯影中心開始,直到這個鹵化銀晶體中的銀離子全部被還原為止,但現有的顯影液存在顯影效果不凈和顯影過度的的現象。
發明內容
1.要解決的技術問題
針對現有技術中存在的問題,本發明的目的在于提供一種工業設備用顯影液,采用更為純凈的蒸餾水或除去沉淀雜質的沸水減少顯影液的氧化,采用水溶性更好的磺酸鹽型表面活性劑,該表面活性劑滲透快速均勻,乳化、發泡性能好,提高了顯影液的生產效率,通過控制加入KOH的量來控制顯影液的濃度,繼而提高產品適用度。
2.技術方案
為解決上述問題,本發明采用如下的技術方案,
一種工業設備用顯影液,包括如下重量份的原料,純水30-50份、KOH10-15份、表面活性劑25-40份、辛酸8-12份。
作為本發明進一步的方案,所述表面活性劑的制備方法,包括如下步驟:將原油進入反應器中處理,在紫外線照射下,引入氯氣和二氧化硫,進行磺氯化反應,再經過脫氣和皂化的步驟,最后通過分離器進行脫油脫鹽得到表面活性劑。
作為本發明進一步的方案,所述純水為蒸餾水或除去沉淀過的沸水。
作為本發明進一步的方案,所述辛酸為是八個碳的直鏈羧酸,通過正己基丙二酸加熱放出二氧化碳,同時減壓至4~6.65kPa使反應完全,最后將反應產物減壓蒸餾,收集127~129℃(2.13kPa)餾分得到使用的辛酸。
作為本發明進一步的方案,所述紫外線照射引發反應,氯氣和二氧化硫俺1:1的比例在氣體混合器內混合,再通入反應器。
作為本發明進一步的方案,所述磺氯化反應為放熱反應,為除去反應熱可采用內冷卻方式,也可采用外冷卻方式。
作為本發明進一步的方案,所述脫氣和皂化的過程里,通過在產物中溶解一部分HCL,未反應的氯氣和二氧化硫,利用壓縮空氣,將這些氣體吹脫,至反應混合物中的游離酸含量小于0.085%之后,進入皂化釜,其整個皂化過程保持微堿性,中和溫度保持在80-90℃,游離堿的含量為0.4-0.6%。
3.有益效果
相比于現有技術,本發明的優點在于,
(1)本方案通過通過使用更為純凈的蒸餾水或除去沉淀雜質的沸水,減少顯影液的氧化。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天津華源化工有限公司,未經天津華源化工有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110031892.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種燕麥的水培方法
- 下一篇:一種前端批量合成自定義地圖標簽的方法





