[發(fā)明專利]一種針對未知動態(tài)注塑成型過程的二維數(shù)據(jù)驅(qū)動最優(yōu)跟蹤控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110031486.5 | 申請日: | 2021-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN112859604B | 公開(公告)日: | 2022-10-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 施惠元;文馨;楊辰;蘇成利;姜雪瑩;彭博;楊晨;李平 | 申請(專利權(quán))人: | 遼寧石油化工大學(xué) |
| 主分類號: | G05B13/04 | 分類號: | G05B13/04 |
| 代理公司: | 沈陽之華益專利事務(wù)所有限公司 21218 | 代理人: | 鄒琳 |
| 地址: | 113000 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 針對 未知 動態(tài) 注塑 成型 過程 二維 數(shù)據(jù) 驅(qū)動 最優(yōu) 跟蹤 控制 方法 | ||
1.一種針對未知動態(tài)注塑成型過程的二維數(shù)據(jù)驅(qū)動最優(yōu)跟蹤控制方法,其特征在于:具體步驟如下:
步驟一:建立具有未知動態(tài)的二維注塑成型過程的狀態(tài)空間模型:
二維注塑成型過程的保壓階段的離散輸入輸出模型如下:
NP(k+1,p)=1.317NP(k,p)+171.8VO(k,p)-(0.3259NP(k-1,p)+156.8VO(k-1,p))
(1)
其中,VO(k,p)表示系統(tǒng)在p批次k時刻的閥門開度,VO(k-1,p)表示系統(tǒng)p批次k-1時刻的閥門開度,NP(k+1,p)表示系統(tǒng)p批次k+1時刻的腔內(nèi)壓力,NP(k,p)表示系統(tǒng)p批次k時刻的腔內(nèi)壓力;
取狀態(tài)變量x(k,p)=[NP(k,p) -0.3259NP(k-1,p)-156.8VO(k-1,p)]T,控制量u(k,p)=VO(k,p),系統(tǒng)輸出y(k,p)=NP(k,p)得到保壓階段狀態(tài)空間模型:
其中,
步驟二:將構(gòu)建的二維注塑成型過程狀態(tài)空間模型轉(zhuǎn)化為新的增廣狀態(tài)空間模型;
利用式(2),用p批次k+1時刻的狀態(tài)空間減去p-1批次k+1時刻的狀態(tài)空間,得到如下所示的狀態(tài)空間增量模型:
其中,r(k,p)=u(k,p)-u(k,p-1)表示系統(tǒng)p批次k時刻的更新律;
定義yr為保壓階段腔內(nèi)壓力的設(shè)定值,該設(shè)定值在各批次及各時刻均保持不變,則系統(tǒng)在p批次k+1時刻的輸出跟蹤誤差為e(k+1,p)=y(tǒng)r-y(k+1,p),將系統(tǒng)的狀態(tài)空間模型(2)代入腔內(nèi)壓力y(k+1,p),得到
e(k+1,p)=e(k+1,p-1)-CAΔpx(k,p)-CBΔpr(k,p) (4)
將輸出跟蹤誤差和增量的狀態(tài)變量引入新的狀態(tài)空間變量中,得到新的擴展的狀態(tài)空間模型,結(jié)果如下:
其中,
e(k+1,p)=y(tǒng)r(k+1,p)-y(k+1,p),
步驟三:設(shè)計具有未知動態(tài)注塑成型系統(tǒng)的二維增廣狀態(tài)空間模型的控制器;
根據(jù)模型(5),設(shè)計具有未知動態(tài)注塑成型系統(tǒng)的控制器增益為:
式中K1為系統(tǒng)p批次k時刻對應(yīng)的控制器增益,K2為系統(tǒng)p-1批次k+1時刻對應(yīng)的控制器增益;
同時設(shè)計具有未知動態(tài)注塑成型系統(tǒng)的最優(yōu)跟蹤控制問題的性能指標(biāo)為如下形式:
根據(jù)性能指標(biāo)設(shè)計出系統(tǒng)的二維值函數(shù):
其二次型形式如下所示:
根據(jù)性能指標(biāo)以及二維值函數(shù),設(shè)計系統(tǒng)對狀態(tài)評估的二維Q函數(shù)為:
類似于二維值函數(shù),二維Q函數(shù)表示為如下形式:
因此,將二維值函數(shù)和二維Q函數(shù)的二次型形式作比較,得到P矩陣和H矩陣的基于控制器增益的關(guān)系:
將注塑成型過程的狀態(tài)空間模型代入二維Q函數(shù)求解,表達出H矩陣的基于模型參數(shù)的具體形式:
其中,為了簡化表達,用x1表示χ(k,p),用x2表示χ(k+1,p-1);
基于動態(tài)規(guī)劃,得到基于Q函數(shù)的二維貝爾曼方程,具體形式如下:
其中z(k,p)=[χT(k,p),χT(k+1,p-1),rT(k,p)]T;
根據(jù)最優(yōu)性的必要條件,令得到最優(yōu)控制輸入:
步驟四:設(shè)計控制律以及控制器增益K1,K2;
采用數(shù)據(jù)驅(qū)動的二維Q學(xué)習(xí)算法來求解H矩陣參數(shù)Hrr,和從而根據(jù)以及設(shè)計出控制器增益K1,K2;
在系統(tǒng)中引入了目標(biāo)策略rj(k,p),此時得到了如下的新系統(tǒng):
其中,
沿著新系統(tǒng)的軌跡,二維貝爾曼方程表示為如下形式:
將新系統(tǒng)以及P矩陣和H矩陣的關(guān)系代入到(17)式中,得到如下所示的二維貝爾曼方程表達式:
接著,則用采集到的系統(tǒng)狀態(tài)數(shù)據(jù)來求解貝爾曼方程,用克羅內(nèi)克積、最小二乘計算理論將(18)式描述為如下形式:
其中,
通過對上述各項的計算,得到控制器增益:
步驟五:通過Q學(xué)習(xí)算法求解控制器增益K1,K2。
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