[發明專利]一種高濃度污水深度處理及回用裝備

在審

• 申請號: 202110031337.9
• 申請日: 2021-01-11
• 公開（公告）號: CN112875878A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 張軍強
• 申請（專利權）人: 張軍強
• 主分類號: C02F7/00
• 分類號: C02F7/00;C02F3/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種高濃度污水深度處理及回用裝備，包括第一處理部（1），其特征在于：所述第一處理部（1）的下端位置固定連接有第二處理部（2），所述第一處理部（1）包括傳導結構（3）和排放結構（4），所述傳導結構（3）設在第一處理部（1）的內端頂部，所述傳導結構（3）的下端位置與排放結構（4）相連通設置，所述傳導結構（3）包括連通管（5）、中空管（6）、接通管（7）和外置管（8），所述中空管（6）設在傳導結構（3）的內端底部，所述中空管（6）的一端與連通管（5）相連通設置，所述中空管（6）的上端位置與接通管（7）相連通設置，所述接通管（7）的側端位置對稱與外置管（8）相連通設置，所述排放結構（4）包括排放裝置（9）和連通裝置（10），所述連通裝置（10）設在排放結構（4）的內端中心，所述連通裝置（10）的側端位置對稱連通有排放裝置（9），所述排放裝置（9）包括第一曝氣件（11）、中心管件（12）和第二曝氣件（13），所述中心管件（12）設在排放裝置（9）的內端中心，所述中心管件（12）的一端與第一曝氣件（11）相連通設置，所述中心管件（12）的另一端與第二曝氣件（13）相連通設置，所述第一曝氣件（11）包括弧管（14）、第一支管（15）、導管桿（16）、第二支管（17）、側通管（18）和存儲管（19），所述存儲管（19）設在第一曝氣件（11）的內端中心位置，所述存儲管（19）的一端與側通管（18）相連通設置，所述存儲管（19）的另一端與弧管（14）相連通，所述弧管（14）的側端位置與第一支管（15）和第二支管（17）相連通設置，所述第一支管（15）和第二支管（17）的底部位置與導管桿（16）相連通設置，所述連通裝置（10）包括連通板架（20）、連通孔（21）和側孔（22），所述連通板架（20）設在連通裝置（10）的內端中心位置，所述連通板架（20）的側端位置對稱開設有連通孔（21），所述連通板架（20）的前后端位置對稱開設有側孔（22）。

2.根據權利要求1所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述傳導結構（3）內端的外置管（8）與外界相連通設置，且通過外置管（8）與接通管（7）相連通設置。

3.根據權利要求2所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述傳導結構（3）內端的連通管（5）通過中空管（6）、接通管（7）和外置管（8）進行內端的連通設置。

4.根據權利要求3所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述傳導結構（3）通過連通管（5）與連通裝置（10）內端的側孔（22）相連通設置。

5.根據權利要求4所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述連通裝置（10）內端的連通板架（20）通過連通孔（21）與中心管件（12）相連通設置。

6.根據權利要求5所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述排放裝置（9）內端的中心管件（12）與側端位置的存儲管（19）通過側通管（18）相連通設置。

7.根據權利要求6所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述第一曝氣件（11）內端的弧管（14）、第一支管（15）、導管桿（16）、第二支管（17）、側通管（18）和存儲管（19）為一體式的連通結構，且第一支管（15）、導管桿（16）和第二支管（17）通過弧管（14）采用圓周分布設置。

8.根據權利要求7所述的一種高濃度污水深度處理及回用裝備，其特征在于：所述第一曝氣件（11）還包括將單向閥（23）和套接軸架（24），所述套接軸架（24）與第一支管（15）的頂端位置相套接設置，所述單向閥（23）安裝在套接軸架（24）的上端位置處。