[發(fā)明專利]一種靜磁場(chǎng)下3D打印γ-TiAl合金的方法及其裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110029549.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112872364A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王江;任忠鳴;陳超越;曹庭瑋;帥三三;胡濤;玄偉東;李傳軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B22F10/25 | 分類號(hào): | B22F10/25;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 趙曉琳 |
| 地址: | 200444*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁場(chǎng) 打印 tial 合金 方法 及其 裝置 | ||
1.一種靜磁場(chǎng)下3D打印γ-TiAl合金的方法,按照γ-TiAl合金成型件的三維立體數(shù)據(jù)對(duì)預(yù)合金粉末進(jìn)行3D打印,得到γ-TiAl合金;所述3D打印在靜磁場(chǎng)中進(jìn)行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述靜磁場(chǎng)的方向垂直于3D打印的方向。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述靜磁場(chǎng)為恒穩(wěn)磁場(chǎng),所述靜磁場(chǎng)的強(qiáng)度為0.3~0.5T。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述3D打印的參數(shù)為:激光掃描速度為3~8mm/s,激光功率為800~1200W,送粉速率為3~10g/min,送粉載氣量為5~10L/min。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述預(yù)合金粉末為球形或近球形鈦鋁合金粉末,所述預(yù)合金粉末的粒徑分布范圍為53μm~150μm,平均粒徑為75μm~90μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述3D打印在保護(hù)氣氛下進(jìn)行,所述保護(hù)氣氛中氧含量小于50ppm。
7.一種靜磁場(chǎng)下3D打印γ-TiAl合金的裝置,所述裝置的激光熔覆頭上設(shè)有磁體裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述磁體裝置包括兩個(gè)靜磁體或兩個(gè)電磁鐵;所述兩個(gè)靜磁體或兩個(gè)電磁鐵相對(duì)設(shè)置于激光熔覆頭的噴嘴兩側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,包括:基板加熱裝置、鈦合金基板、磁體裝置、激光器、送粉器、激光熔覆頭、水冷系統(tǒng)、數(shù)控系統(tǒng)和氣體循環(huán)系統(tǒng);
所述基板加熱裝置、鈦合金基板和激光熔覆頭位于成型腔室內(nèi)部;所述數(shù)控系統(tǒng)的行進(jìn)系統(tǒng)位于成型腔室內(nèi)部,數(shù)控系統(tǒng)的操作臺(tái)位于成型腔室外部;
所述激光熔覆頭固定在數(shù)控系統(tǒng)的行進(jìn)系統(tǒng)上;所述送粉器通過(guò)送粉管道與激光熔覆頭連通;所述激光器通過(guò)光纖與激光熔覆頭連接;所述水冷系統(tǒng)通過(guò)管道接入激光熔覆頭。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于,所述激光器為CO2氣體激光器、YAG固體激光器、光纖激光器或半導(dǎo)體激光器。
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