[發明專利]一種管式PECVD設備的腔室結構在審
| 申請號: | 202110028055.3 | 申請日: | 2021-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN112853325A | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發明(設計)人: | 周繼承;黃靜;廖佳;梁慧玲;徐偉;呂博文 | 申請(專利權)人: | 中南大學 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京東方盛凡知識產權代理事務所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 王穎 |
| 地址: | 410083 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 pecvd 設備 結構 | ||
1.一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于,包括石英爐管(9),前端法蘭組件,尾端法蘭組件和補氣裝置;所述石英爐管(9)的兩端分別與所述前端法蘭組件和后端法蘭組件固接;所述石英爐管(9)內設置有石墨舟(22);
所述前端法蘭組件包括前端固定法蘭(10);所述前端固定法蘭(10)套接在所述石英爐管(9)一端外壁;所述前端固定法蘭(10)的一側依次固接有前端水冷法蘭(11),前端密封法蘭(24),前端進氣法蘭(12)和爐門(13);所述前端進氣法蘭(24)為環狀設置;所述前端進氣法蘭內開設有環形腔;所述前端進氣法蘭內壁周向等距開設有若干布氣孔(23);所述布氣孔(23)與所述環形腔連通;所述前端進氣法蘭(12)外壁底部連通有進氣管(15);遠離所述進氣管(15)的所述布氣孔(23)孔徑逐漸增大;所述石英爐管(9)另一端連通有補氣裝置。
2.根據權利要求1所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述尾端法蘭組件包括尾端固定法蘭(5);所述尾端固定法蘭(5)套接在所述石英爐管另一端外壁;所述尾端固定法蘭(5)的一側依次固接有尾端密封法蘭(4),尾端水冷法蘭(3)和尾端端面法蘭(2)。
3.根據權利要求2所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述補氣裝置包括補氣管(7);所述補氣管(7)位于所述石英爐管(9)外管口為補氣管進氣口(1);所述補氣管(7)位于所述石英爐管(9)內腔管口為補氣管出氣口(8);所述補氣管(7)的一端連通有補氣管進氣管道A(16)和補氣管進氣管道B(17);所述尾端端面法蘭(2)側面開設有補氣通孔(25);所述補氣管(7)另一端通過所述補氣通孔連通所述石英爐管(9)內腔,且固接有補氣管固定件(26);所述補氣管固定件(26)頂部與所述石英爐管(9)內壁頂部固接。
4.根據權利要求3所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述補氣管出氣口(8)端面依次固接有均勻布氣板(18)和補氣管布氣板(19)。
5.根據權利要求1所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述進氣管(15)由進氣管道A(20)和進氣管道B(21)組成。
6.根據權利要求1所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述石墨舟(22)的一端電性連接有電極桿(6);所述電極桿(6)的一端貫穿所述尾端端面法蘭(2)側面中部電性連接有外接電源。
7.根據權利要求1所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述尾端端面法蘭(2)側面底部連通有抽氣管(14);所述抽氣管(14)的一端貫穿所述尾端端面法蘭(2)側面連通所述石英爐管(9)內腔。
8.根據權利要求7所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述抽氣管(14)外壁距所述石英管(9)底面50-100mm。
9.根據權利要求1所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述補氣通孔(25)內壁頂部距所述尾端端面法蘭(2)頂端50-100mm。
10.根據權利要求1所述的一種管式PECVD設備的腔室結構,其特征在于:所述補氣管(7)出氣方向平行于所述石墨舟(22)頂面。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中南大學,未經中南大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110028055.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種液壓機導柱導向結構
- 下一篇:一種Boost變換器模糊控制方法
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





