[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu),制備方法及電子設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110027472.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112864141A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李學(xué)會(huì);魏煒;劉誠(chéng);孫軍;溫正欣;和巍巍;汪之涵;傅俊寅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳基本半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L25/07 | 分類號(hào): | H01L25/07;H01L25/00;H01L29/739;H01L29/872 |
| 代理公司: | 深圳睿臻知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44684 | 代理人: | 張海燕 |
| 地址: | 518122 廣東省深圳市坪山區(qū)坑梓街道辦*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 結(jié)構(gòu) 制備 方法 電子設(shè)備 | ||
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu),制備方法及電子設(shè)備,所述半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)包括絕緣柵雙極型晶體管芯片和肖特基二極管芯片,所述絕緣柵雙極型晶體管芯片和肖特基二極管芯片反并聯(lián)合封設(shè)置,本申請(qǐng)實(shí)施例通過(guò)將絕緣柵雙極型晶體管芯片與肖特基二極管芯片充分組合與利用,使絕緣柵雙極型晶體管器件減小功耗,降低溫升,進(jìn)而提高系統(tǒng)效率,使設(shè)備小型化和輕型化。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)各實(shí)施例屬于半導(dǎo)體領(lǐng)域,具體涉及半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu),制備方法及電子設(shè)備。
背景技術(shù)
在絕緣柵雙極型晶體管單管兩端通常反向并聯(lián)的一個(gè)二極管,這個(gè)二極管叫做續(xù)流二極管(FWD,F(xiàn)reewheeling Diode),通常是硅基快恢復(fù)二極管FRD(Fast RecoveryDiode),該續(xù)流二極管的作用是在電路中電壓或電流出現(xiàn)突變時(shí),對(duì)電路中其他元件起保護(hù)作用。
傳統(tǒng)絕緣柵雙極型晶體管結(jié)構(gòu),將絕緣柵雙極型晶體管芯片與Si基FRD合封形成,現(xiàn)有技術(shù)中由于續(xù)流二極管Si基FRD反向恢復(fù)時(shí)存在較大且時(shí)間較長(zhǎng)的反向恢復(fù)電流,造成傳統(tǒng)絕緣柵雙極型晶體管升溫較高,大大降低系統(tǒng)效率。同時(shí)現(xiàn)有電路系統(tǒng)體積大,重量較重。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)實(shí)施例目的在于克服上述問(wèn)題或者至少部分地解決或緩解上述問(wèn)題,本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案可以減小功耗,降低溫升,進(jìn)而提高系統(tǒng)效率,使設(shè)備小型化和輕型化。
第一方面,本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu),包括,絕緣柵雙極型晶體管芯片和肖特基二極管芯片,所述絕緣柵雙極型晶體管芯片和肖特基二極管芯片反并聯(lián)合封設(shè)置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將絕緣柵雙極型晶體管芯片與肖特基二極管芯片充分組合與利用,使絕緣柵雙極型晶體管芯片器件可以減小功耗,降低溫升,進(jìn)而提高系統(tǒng)效率。
第二方面,本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)制備方法,包括,獲取一絕緣柵雙極型晶體管芯片和一肖特基二極管芯片;
將所述絕緣柵雙極型晶體管芯片和肖特基二極管芯片反并聯(lián)合封設(shè)置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)第二方面提供實(shí)施例的有益效果與上述任一方面技術(shù)方案的有益效果相同,在此不再贅述。
第三方面,本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種電子設(shè)備,包括第一方面所述的半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)第三方面提供實(shí)施例的有益效果與上述任一方面技術(shù)方案的有益效果相同,在此不再贅述。
附圖說(shuō)明
此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本申請(qǐng)的進(jìn)一步理解,構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分,本申請(qǐng)的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本申請(qǐng),并不構(gòu)成對(duì)本申請(qǐng)的不當(dāng)限定。后文將參照附圖以示例性而非限制性的方式詳細(xì)描述本申請(qǐng)的一些具體實(shí)施例。附圖中相同的附圖標(biāo)記標(biāo)示了相同或類似的部件或部分,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是,這些附圖未必是按比例繪制的,在附圖中:
圖1為現(xiàn)有IGBT器件結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為現(xiàn)有IGBT器件結(jié)構(gòu)橋臂電路T/4開(kāi)通的示意圖;
圖3為現(xiàn)有IGBT器件結(jié)構(gòu)橋臂電路2T/4開(kāi)通的示意圖;
圖4為現(xiàn)有IGBT器件結(jié)構(gòu)原理結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為圖3在t1時(shí)刻的波形圖;
圖6為圖3在t1時(shí)刻的電流流向示意圖;
圖7為圖3在t2時(shí)刻的波形圖;
圖8為圖3在t3時(shí)刻的波形圖(與Si基FRD合封的IGBT器件結(jié)構(gòu)在t3時(shí)刻的波形圖);
圖9為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的IGBT器件結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖;
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L25-00 由多個(gè)單個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)器件組成的組裝件
H01L25-03 .所有包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中同一小組內(nèi)的相同類型的器件,例如整流二極管的組裝件
H01L25-16 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個(gè)或多個(gè)不同大組內(nèi)的類型的器件,例如構(gòu)成混合電路的
H01L25-18 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個(gè)或多個(gè)同一大組的不同小組內(nèi)的類型的器件
H01L25-04 ..不具有單獨(dú)容器的器件
H01L25-10 ..具有單獨(dú)容器的器件
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