[發明專利]一種雙目標定精度在線檢測方法及裝置有效
| 申請號: | 202110025289.2 | 申請日: | 2021-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN112734858B | 公開(公告)日: | 2022-11-29 |
| 發明(設計)人: | 宋堃;安向京;胡庭波 | 申請(專利權)人: | 長沙行深智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/80 | 分類號: | G06T7/80;G06V10/40 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周長清;胡君 |
| 地址: | 410000 湖南省長*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雙目 標定 精度 在線 檢測 方法 裝置 | ||
1.一種雙目標定精度在線檢測方法,其特征在于,步驟包括:
S1.特征點提取匹配:分別對待測雙目攝像頭采集同一圖像所得到的雙目圖像進行特征點提取,并對所述雙目圖像提取出的特征點進行匹配,得到多個特征點對;
S2.特征點對篩選:從多個特征點對中篩選出部分特征點對作為目標特征點對;
S3.誤差評估參數計算:計算各目標特征點對的基礎矩陣,并綜合計算得到的各所述基礎矩陣得到用于評估當前雙目攝像頭標定精度的誤差評估參數;
S4.標定精度評估:使用得到的所述誤差評估參數評估待測雙目攝像頭的標定精度;
所述步驟S3中,以各目標特征點對作為樣本計算基礎矩陣誤差能量,并將所述基礎矩陣誤差能量作為所述誤差評估參數;將基礎矩陣誤差向量中的元素相加,所得結果即為所述基礎矩陣誤差能量,所述基礎矩陣誤差向量為基礎矩陣之間的偏差向量。
2.根據權利要求1所述的雙目標定精度在線檢測方法,其特征在于,所述步驟S2的步驟包括:
S21.特征點對分組:取全部或部分特征點對進行分組,得到多組特征點對;
S22.誤差能量計算:分別計算各組特征點對中每個特征點對的基礎矩陣,并根據各所述基礎矩陣計算各組特征點對的基礎矩陣誤差能量;
S23.特征點對篩選:根據各組特征點對的所述基礎矩陣誤差能量篩選出目標特征點對。
3.根據權利要求2所述的雙目標定精度在線檢測方法,其特征在于:所述步驟S21中,采用隨機方式選取出部分特征點進行分組。
4.根據權利要求2所述的雙目標定精度在線檢測方法,其特征在于:所述步驟S23中,取所述基礎矩陣誤差能量最小的一組或兩組以上的特征點對作為目標特征點對。
5.根據權利要求1~4中任意一項所述的雙目標定精度在線檢測方法,其特征在于,所述步驟S4中,獲取待測雙目攝像頭多次對同一位置圖像檢測得到的所述誤差評估參數并計算統計值得到最終的誤差評估參數,使用所述最終的誤差評估參數評估待測雙目攝像頭的標定精度。
6.根據權利要求1~4中任意一項所述的雙目標定精度在線檢測方法,其特征在于,所述步驟S4中,當判斷到所述誤差評估參數符合預設條件時,判定需要重新進行標定,輸出判定結果,否則返回步驟S1。
7.一種雙目標定精度在線檢測裝置,其特征在于,包括:
特征點提取匹配模塊,用于分別對待測雙目攝像頭采集同一圖像所得到的雙目圖像進行特征點提取,并對所述雙目圖像提取出的特征點進行匹配,得到多個特征點對;
特征點對篩選模塊,用于從多個特征點對中篩選出部分特征點對作為目標特征點對;
誤差評估參數計算模塊,用于計算各目標特征點對的基礎矩陣,并綜合計算得到的各所述基礎矩陣得到用于評估當前雙目攝像頭標定精度的誤差評估參數;
標定精度評估模塊,用于根據得到的所述誤差評估參數評估待測雙目攝像頭的標定精度;
所述誤差評估參數計算模塊中,以各目標特征點對作為樣本計算基礎矩陣誤差能量,并將所述基礎矩陣誤差能量作為所述誤差評估參數;將基礎矩陣誤差向量中的元素相加,所得結果即為所述基礎矩陣誤差能量,所述基礎矩陣誤差向量為基礎矩陣之間的偏差向量。
8.根據權利要求7所述的雙目標定精度在線檢測裝置,其特征在于,所述特征點對篩選模塊包括:
特征點對分組單元,用于取全部或部分特征點對進行分組,得到多組特征點對;
誤差能量計算單元,用于分別計算各組特征點對中每個特征點對的基礎矩陣,并根據各所述基礎矩陣計算各組特征點對的基礎矩陣誤差能量;
特征點對篩選單元,用于使用各組特征點對的所述基礎矩陣誤差能量篩選出目標特征點對。
9.一種雙目標定精度在線檢測裝置,包括處理器以及存儲器,所述存儲器用于存儲計算機程序,所述處理器用于執行所述計算機程序,其特征在于,所述處理器用于執行所述計算機程序,以執行如權利要求1~6中任意一項所述方法。
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