[發明專利]一種腔室的清洗方法

在審

• 申請號: 202110023554.3
• 申請日: 2021-01-08
• 公開（公告）號: CN114752918A
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發明（設計）人: 鄒志文;崔虎山;鄒榮園;范思大;丁光輝;許開東
• 申請（專利權）人: 江蘇魯汶儀器有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;B08B7/00;H01J37/32
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 沈進

1.一種腔室的清洗方法，其特征在于包括以下步驟：

第一步、關閉ICP-CVD反應腔室的分子泵，啟動干泵抽真空，將腔壓抽至于20-60mT；

第二步、通入清洗氣體，所述清洗氣體包括氟基氣體、含氧氣體和惰性氣體；

第三步、通過高頻電源啟輝，高頻電源的功率為100-600W，同時保持腔室的腔壓為0.8-4T；

第四步、將高頻電源的功率調高到600-3000W，從而形成清洗氣體的等離子體，并對腔室內進行清洗，在該高頻清洗過程中間歇啟動低頻電源，低頻電源的功率為20-3000W；清洗過程中保持腔室的腔壓為0.8-4T；

第五步、關閉干泵，啟動分子泵抽真空，將腔壓抽至于20mT下；

第六步、再次通入清洗氣體，啟動高頻電源，高頻電源的功率為600-3000W，從而形成清洗氣體的等離子體，對腔室進行清洗，在該高頻清洗過程中間歇啟動低頻電源，低頻電源的功率為20-3000W；清洗過程中腔壓保持在10-70mT，完成腔室的清洗。

2.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述步驟二中，所述清洗氣體中的氟基氣體的流量為1000-3000sccm、含氧氣體的流量為300-1000sccm、惰性氣體的流量為500-1000sccm。

3.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述步驟六中，所述清洗氣體中的氟基氣體的流量為600-1000sccm、含氧氣體的流量為200-600sccm、惰性氣體的流量為100-300sccm。

4.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述氟基氣體為CF₄、C₂H₆、SF₆、C₄F₈、CH₂F₂、CHF₃中的一種或多種混合氣體。

5.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述含氧氣體為O₂、N₂O、O₃中的一種或多種混合氣體。

6.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述惰性氣體為H₂、He、Ar、N₂中的一種或多種混合氣體。

7.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述步驟四中，高頻清洗時間為10-120s，間歇啟動低頻電源過程中，低頻電源的開啟時間為5-10s，停止時間為5-10s。

8.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述步驟六中，高頻清洗時間為10-120s，間歇啟動低頻電源過程中，低頻電源的開啟時間為5-10s，停止時間為5-10s。

9.根據權利要求1所述的一種腔室的清洗方法，其特征在于：所述步驟六中，低頻電源的功率為20-60W。