[發(fā)明專利]一種基于混合視域光場的三維定位測量方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110023529.5 | 申請日: | 2021-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN112634379B | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金欣;康今世 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學深圳國際研究生院 |
| 主分類號: | G06T7/80 | 分類號: | G06T7/80;G06T7/70;G06T7/557;G06V10/44 |
| 代理公司: | 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223 | 代理人: | 方艷平 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 混合 視域 三維 定位 測量方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于混合視域光場的三維定位測量方法,包括:A1:搭建光場傳感器系統(tǒng),所述光場傳感器系統(tǒng)包括設(shè)置在機械臂臂端的臂端相機組和設(shè)置在機械臂以外的臂外相機組,所述臂外相機組的視場區(qū)域包含所述臂端相機組的視場區(qū)域;A2:分別對所述臂端相機組和所述臂外相機組進行標定,以分別獲取臂端光場和臂外光場的內(nèi)部參數(shù);A3:結(jié)合所述臂端光場和所述臂外光場的內(nèi)部參數(shù)進行雙視域標定配準,生成混合視域光場;A4:提取所述混合視域光場的光場特征點,逆投影反演所述混合視域光場的空間三維坐標,以進行三維定位和測量。本發(fā)明的基于混合視域光場的三維定位測量方法,在遮擋魯棒的前提下實現(xiàn)高精度的三維測量和環(huán)境感知。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及計算機視覺與數(shù)字圖像處理領(lǐng)域,尤其涉及一種基于混合視域光場的三維定位測量方法。
背景技術(shù)
三維定位視覺測量是以光學傳感器捕獲的圖像作為輸入,通過計算機視覺處理,結(jié)合任務(wù)需要獲取圖像中感興趣目標的位置、姿態(tài)信息的技術(shù)。該技術(shù)是機器視覺系統(tǒng)認知三維客觀世界的核心技術(shù),在工業(yè)機器人、自動駕駛以及安防監(jiān)控等多個產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域中,尤其是在對安全性和精度要求較高的人機協(xié)作機器人領(lǐng)域具有重要意義。然而,傳統(tǒng)的視覺測量技術(shù)在傳感器層面多依賴于二維成像傳感器,無法提供場景的深度信息;基于多目視覺的相機陣列往往體積較大,不便于安裝在機器人臂端以提供工作區(qū)域內(nèi)的視覺反饋,且對紋理稀疏的物體測量效果不佳。
以上背景技術(shù)內(nèi)容的公開僅用于輔助理解本發(fā)明的構(gòu)思及技術(shù)方案,其并不必然屬于本專利申請的現(xiàn)有技術(shù),在沒有明確的證據(jù)表明上述內(nèi)容在本專利申請的申請日已經(jīng)公開的情況下,上述背景技術(shù)不應(yīng)當用于評價本申請的新穎性和創(chuàng)造性。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種基于混合視域光場的三維定位測量方法,在遮擋魯棒的前提下實現(xiàn)高精度的三維測量和環(huán)境感知。
為了達到上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
本發(fā)明的一個實施例公開了一種基于混合視域光場的三維定位測量方法,包括以下步驟:
A1:搭建光場傳感器系統(tǒng),所述光場傳感器系統(tǒng)包括設(shè)置在機械臂臂端的臂端相機組和設(shè)置在機械臂以外的臂外相機組,所述臂外相機組的視場區(qū)域包含所述臂端相機組的視場區(qū)域;
A2:分別對所述臂端相機組和所述臂外相機組進行標定,以分別獲取臂端光場和臂外光場的內(nèi)部參數(shù);
A3:結(jié)合所述臂端光場和所述臂外光場的內(nèi)部參數(shù)進行雙視域標定配準,生成混合視域光場;
A4:提取所述混合視域光場的光場特征點,逆投影反演所述混合視域光場的空間三維坐標,以進行三維定位和測量。
優(yōu)選地,所述臂端相機組包括多個立體相機,所述臂外相機組包括多個普通相機。
優(yōu)選地,步驟A2中對所述臂端相機組進行標定以獲取臂端光場的內(nèi)部參數(shù)具體包括:對多個所述立體相機分別進行標定以獲取對應(yīng)的四維特征點,再進行下述操作以計算得到多個所述立體相機的內(nèi)部參數(shù):
其中:
H—臂端光場的光場單應(yīng)性矩陣;
R—相機坐標系到標定物所指定的局部坐標系之間的旋轉(zhuǎn)矩陣;
t—相機坐標系到標定物所指定的局部坐標系之間的平移向量;
d—描述光場相機徑向畸變參數(shù)的一組畸變向量;
E(·)—在每個子孔徑圖像下反投影像點與實際像點間的誤差函數(shù);
(XW,YW,ZW)—轉(zhuǎn)換前世界坐標系下觀察到的三維先驗點坐標;
i,j—光場相機的子孔徑圖像索引值;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學深圳國際研究生院,未經(jīng)清華大學深圳國際研究生院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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