[發(fā)明專利]用于無機薄膜太陽能電池的p型半導(dǎo)體層的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110018910.2 | 申請日: | 2021-01-07 |
| 公開(公告)號: | CN114068737A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金鎮(zhèn)赫;李秉勛;賈比材;李棟敏;張浚成;曹恩愛 | 申請(專利權(quán))人: | 全南大學(xué)校產(chǎn)學(xué)協(xié)力團 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/0445;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京鍾維聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11579 | 代理人: | 羅銀燕 |
| 地址: | 韓國光州*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 無機 薄膜 太陽能電池 半導(dǎo)體 制備 方法 | ||
1.一種用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,包括:
第一金屬混合層的形成步驟,以共同濺射的方式在基板蒸鍍Zn及Cu或者Sn及Cu來形成混合Cu-Zn或Cu-Sn的第一金屬混合層;
第二金屬混合層的形成步驟,以共同濺射的方式在上述第一金屬混合層上蒸鍍Sn及Cu或者Zn及Cu來形成混合Cu-Sn或Cu-Zn的第二金屬混合層;
第一合金層及第二合金層的形成步驟,對上述第一金屬混合層及第二金屬混合層進行第一次熱處理,由此,使上述第一金屬混合層形成由Cu-Zn合金或Cu-Sn合金構(gòu)成的第一合金層,使上述第二金屬混合層形成由Cu-Sn合金或Cu-Zn合金構(gòu)成的第二合金層;以及
CZTSSe薄膜形成步驟,包括將上述第一合金層及第二合金層與S及Se粉末一同進行第二次熱處理的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述第一金屬混合層或第二金屬混合層的形成步驟通過下述過程執(zhí)行,即,向Zn施加60W至80W的直流電源,向Cu施加20W至40W的直流電源,在7毫托~9毫托的工序壓力條件下同時蒸鍍800秒鐘~1000秒鐘。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述第一金屬混合層或第二金屬混合層的形成步驟通過下述過程執(zhí)行,即,向Sn施加60W至80W的直流電源,向Cu施加35W至55W的直流電源,在7毫托~9毫托的工序壓力條件下同時蒸鍍1400秒鐘~1600秒鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述第一合金層及第二合金層的形成步驟包括:
在氬或氮氣的大氣壓氣氛及200℃~400℃的溫度條件下,對上述第一金屬混合層及第二金屬混合層進行80分鐘~100分鐘的第一次熱處理的步驟;以及
進行150分鐘至210分鐘的自然冷卻的步驟。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述CZTSSe薄膜形成步驟包括:
在氬氣氛、450托~550托的壓力及500℃~600℃的溫度條件下,將上述第一合金層及第二合金層與S及Se粉末一同進行7分鐘~8分鐘的第二次熱處理的步驟;以及
自然冷卻至常溫的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述第二次熱處理通過將上述第一合金層及第二合金層與S及Se粉末裝入石墨箱子來進行。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,以1∶90至1∶120的重量比包含上述S及Se粉末。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述Cu-Zn合金包含Cu6Zn8,上述Cu-Sn合金包含Cu3Sn及Cu6Sn5。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述基板為形成有下部電極層的透明基板,上述第一金屬混合層形成于上述下部電極層上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于無機薄膜太陽能電池的p型化合物半導(dǎo)體層的制備方法,其特征在于,上述CZTSSe薄膜抑制包含SnS(e)2、ZnS(e)、Cu2S(e)、Cu2SnS(e)3的二次相,由Cu2ZnSn(S,Se)4構(gòu)成。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





