[發(fā)明專利]鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110017003.6
• 申請(qǐng)日: 2021-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN112758889A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙佳偉;張雪梅;方沛軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 氫儲(chǔ)（上海）能源科技有限公司
• 主分類號(hào): C01B3/00
• 分類號(hào): C01B3/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 畢翔宇

1.一種鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置，其特征在于，包括：支撐構(gòu)件、第一流通組件、第二流通組件、第三流通組件以及至少一個(gè)儲(chǔ)氫構(gòu)件組；

其中，所述支撐構(gòu)件形成有內(nèi)部中空的安裝空間，所述儲(chǔ)氫構(gòu)件、所述第一流通組件、所述第二流通組件以及所述第三流通組件均設(shè)置于所述支撐構(gòu)件的安裝空間內(nèi)；

所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組包括至少一個(gè)儲(chǔ)氫構(gòu)件，所述儲(chǔ)氫構(gòu)件形成有相分隔開的放置有鎂基固態(tài)儲(chǔ)氫物的儲(chǔ)存腔以及用于流通換熱介質(zhì)的換熱腔，所述第一流通組件用于對(duì)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件的儲(chǔ)存腔充氫以及卸氫；所述第二流通組件用于對(duì)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件的換熱腔輸送換熱介質(zhì)，所述第三流通組件用于對(duì)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件的換熱腔排放換熱介質(zhì)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置，其特征在于，所述第一流通組件包括第一流通管路，所述第一流通管路包括第一主流通管路以及至少一個(gè)與所述第一主流通管路相連通的第一分流通管路組，所述第一分流通管路組的數(shù)量與所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組的數(shù)量相等且相一一對(duì)應(yīng)；

所述第一分流通管路組包括與所述第一主流通管路相連通的第一分流通管路以及至少一個(gè)與所述第一分流通管路相連通的第一分流通管路組，任一所述第一分流通管路組所包含的第二分流通管路的數(shù)量與任一所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組所包含的儲(chǔ)氫構(gòu)件的數(shù)量相等且相一一對(duì)應(yīng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置，其特征在于，所述第二流通組件包括第二流通管路，所述第二流通管路包括第二主流通管路以及至少一個(gè)與所述第二主流通管路相連通的第二分流通管路組，所述第二分流通管路組的數(shù)量與所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組的數(shù)量相等且相一一對(duì)應(yīng)；

所述第二分流通管路組包括與所述第二主流通管路相連通的第三分流通管路以及至少一個(gè)與所述第三分流通管路相連通的第三分流通管路組，任一所述第三分流通管路組所包含的第四分流通管路的數(shù)量與任一所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組所包含的儲(chǔ)氫構(gòu)件的數(shù)量相等且相一一對(duì)應(yīng)；

所述第三流通組件包括第三流通管路，所述第三流通管路包括第三主流通管路以及至少一個(gè)與所述第三主流通管路相連通的第三分流通管路組，所述第三分流通管路組的數(shù)量與所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組的數(shù)量相等且相一一對(duì)應(yīng)；

所述第三分流通管路組包括與所述第三主流通管路相連通的第五分流通管路以及至少一個(gè)與所述第五分流通管路相連通的第三分流通管路組，任一所述第三分流通管路組所包含的第六分流通管路的數(shù)量與任一所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組所包含的儲(chǔ)氫構(gòu)件的數(shù)量相等且相一一對(duì)應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置，其特征在于，所述第一流通組件還包括設(shè)置于所述第一流通管路的第一控制閥；所述第一流通管路形成有第一快插接口；

所述第二流通組件還包括設(shè)置于所述第二流通管路的第二控制閥；所述第一流通管路形成有第二快插接口；

所述第三流通組件還包括設(shè)置于第三流通管路的第三控制閥；所述第一流通管路形成有第三快插接口。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置，其特征在于，所述支撐構(gòu)件的安裝空間包括沿著所述支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度方向間隔設(shè)置的第一安裝空間和第二安裝空間，且所述第一安裝空間靠近所述支撐構(gòu)件的一端設(shè)置，所述第二安裝空間靠近所述支撐構(gòu)件的相對(duì)的另一端設(shè)置；

所述第一安裝空間以及所述第二安裝空間內(nèi)分別設(shè)置有至少一個(gè)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組，當(dāng)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組的數(shù)量為多個(gè)時(shí)，多個(gè)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組沿著所述支撐構(gòu)件的高度方向順次設(shè)置，且當(dāng)任一所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組包括多個(gè)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件時(shí)，多個(gè)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件沿著所述支撐構(gòu)件的寬度方向順次設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鎂基固態(tài)儲(chǔ)運(yùn)氫裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組的數(shù)量為六個(gè)，六個(gè)所述儲(chǔ)氫構(gòu)件組包括第一儲(chǔ)氫構(gòu)件組、第二儲(chǔ)氫構(gòu)件組、第三儲(chǔ)氫構(gòu)件組、第四儲(chǔ)氫構(gòu)件組、第五儲(chǔ)氫構(gòu)件組以及第六儲(chǔ)氫構(gòu)件組；

其中，所述第一儲(chǔ)氫構(gòu)件組、所述第二儲(chǔ)氫構(gòu)件組以及所述第三儲(chǔ)氫構(gòu)件組均設(shè)置于所述第一安裝空間，且所述第一儲(chǔ)氫構(gòu)件組、所述第二儲(chǔ)氫構(gòu)件組以及所述第三儲(chǔ)氫構(gòu)件組沿著所述第一安裝空間的高度方向順次設(shè)置；

所述第四儲(chǔ)氫構(gòu)件組、所述第五儲(chǔ)氫構(gòu)件組以及所述第六儲(chǔ)氫構(gòu)件組均設(shè)置于所述第一安裝空間，且所述第四儲(chǔ)氫構(gòu)件組、所述第五儲(chǔ)氫構(gòu)件組以及所述第六儲(chǔ)氫構(gòu)件組沿著所述第二安裝空間的高度方向順次設(shè)置。