[發明專利]指紋模組的成像方法和成像裝置

在審

• 申請號: 202110008810.1
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN114724192A
• 公開（公告）日: 2022-07-08
• 發明（設計）人: 黃建東
• 申請（專利權）人: 上海耕巖智能科技有限公司
• 主分類號: G06V40/12
• 分類號: G06V40/12;G06N3/08
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 張振軍

1.一種指紋模組的成像方法，其特征在于，

所述指紋模組包括：

光源組件，所述光源組件包括多個光源；

感測面，所述多個光源所產生的光線在所述感測面上形成多個相對應的反射光，每個所述反射光均攜帶有指紋信息；

圖像傳感器，所述圖像傳感器采集所述多個反射光獲得采集圖像；

所述多個反射光各自在所述圖像傳感器上的投射范圍至少部分重疊；

所述成像方法包括：

獲得待處理圖像，所述待處理圖像為所述采集圖像中，所述多個反射光各自在所述圖像傳感器上所形成圖像的重疊部分；

將所述待處理圖像進行分離；

根據分離結果獲得指紋圖像。

2.如權利要求1所述的成像方法，其特征在于，所述光源組件包括第一光源和第二光源；

所述第一光源產生的光線在所述感測面上形成攜帶有指紋信息的第一反射光，所述第二光源產生的光線在所述感測面上形成攜帶有指紋信息的第二反射光；所述圖像傳感器采集所述第一反射光和所述第二反射光獲得所述采集圖像；

獲得待處理圖像的步驟中，所述待處理圖像為所述采集圖像中，所述第一反射光所形成圖像與所述第二反射光所形成圖像的重疊部分。

3.如權利要求2所述的成像方法，其特征在于，所述第一反射光在所述圖像傳感器上的投射范圍與所述第二反射光在所述圖像傳感器上的投射范圍部分重疊；

所述第一反射光所形成圖像中未與所述第二反射光所形成圖像重疊的部位為第一已知圖像，所述第二反射光所形成圖像中未與所述第一反射光所形成圖像重疊的部分為第二已知圖像；

將所述待處理圖像進行分離的步驟包括：

以所述第一已知圖像對應的區域和所述第二已知圖像對應的區域二者之一作為第1區，所述第1區所對應的圖像作為第1確定圖像；

根據所述第1區，沿朝向所述待處理圖像的方向，將所述待處理圖像對應的區域分為相鄰接的第2區、第3區、……、第N區；

根據第m確定圖像，對所述第m+1區的待處理圖像進行分離，獲得第m+1確定圖像，其中m為1至N-1范圍內的整數。

4.如權利要求3所述的成像方法，其特征在于，獲得第m+1確定圖像的步驟包括：

基于所述第一光源、所述第二光源、所述感測面以及所述圖像傳感器的相對位置，根據第m確定圖像，獲得第m+1區的第一圖層；

根據所述第m+1區的待處理圖像和第m+1區的第一圖層，獲得第m+1確定圖像。

5.如權利要求4所述的成像方法，其特征在于，根據分離結果獲得指紋圖像包括：根據所述第2區的第一圖層、所述第3區的第一圖層、……、第N區的第一圖層以及所述第一已知圖像或所述第二已知圖像，獲得所述指紋圖像。

6.如權利要求3所述的成像方法，其特征在于，根據分離結果獲得指紋圖像包括：根據第1確定圖像、第2確定圖像、第3確定圖像、……、第N確定圖像，獲得所述指紋圖像。

7.如權利要求1所述的成像方法，其特征在于，將所述待處理圖像進行分離的步驟包括：

根據預設的分離模型對所述待處理圖像進行分離。

8.如權利要求7所述的成像方法，其特征在于，所述分離模型為預先訓練完成的深度學習模型。

9.如權利要求1或7所述的成像方法，其特征在于，所述光源組件所包括光源的數量在2到10范圍內。

10.如權利要求1所述的成像方法，其特征在于，所述光源包括多個點光源，一個所述光源中的多個點光源在所述感測面上形成的反射光在所述圖像傳感器上的投射范圍不重疊。

11.如權利要求10所述的成像方法，其特征在于，所述多個點光源呈陣列排布。