[發明專利]用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件

在審

• 申請號: 202110008357.4
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN112663125A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發明（設計）人: 鄧才參;譚炳維
• 申請（專利權）人: 肇慶市英拓自動化設備科技有限公司
• 主分類號: C25D17/18
• 分類號: C25D17/18;C25D21/00;C25D21/06;C25D21/08
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識產權事務所(普通合伙) 44248
• 代理人: 胡吉科

1.一種用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，包括所述電鍍缸缸體底部的排水孔，其特征在于：還包括吸桿，吸桿為一豎直布置的管道，吸桿的底端設有吸頭，吸頭上設有可過濾電鍍產品的過濾網，吸桿的另一端與吸泵連接，吸桿由一驅動氣缸驅動升降，吸桿可下降到所述電鍍缸的缸體內。

2.根據權利要求1所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述吸桿可下降到使吸頭貼近電鍍缸的缸體底部。

3.根據權利要求1所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述吸頭的底部設有過濾網，或者，所述吸頭的底部和側面均設有過濾網。

4.根據權利要求1或2或3所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述吸桿上設有一用來對吸桿外壁進行清洗的清洗裝置，所述清洗裝置包括套在吸桿上的清洗環，清洗環的高度位置固定不動，所述吸桿升降時相對清洗環上下移動，清洗環上設有進水口和噴水孔，所述進水口外接供水管，所述噴水孔朝向吸桿的外壁。

5.根據權利要求4所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述進水口設于清洗環的上端面或外側面，所述噴水孔設于清洗環的內側面。

6.根據權利要求5所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述噴水孔為多個，多個噴水孔沿圓周方向均勻分布在清洗環的內側面上。

7.根據權利要求6所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述清洗環的底部連接有導套，用來對吸桿的升降運動進行導向。

8.根據權利要求4所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水組件，其特征在于：所述清洗環固定于離心電鍍機的頂部支架上。