[發明專利]一種可調節的培養基制備器降溫設備

在審

• 申請號: 202110008337.7
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN112808641A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 許炳欽
• 申請（專利權）人: 廣州佳寬科技有限公司
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B5/02;B08B13/00;C12M1/02;C12M1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可調節的培養基制備器降溫設備，其結構包括頂蓋(1)、制備器(2)、調節旋鈕(3)、降溫底座(4)，所述頂蓋(1)安裝于制備器(2)上端位置，所述調節旋鈕(3)與降溫底座(4)活動卡合，其特征在于：所述降溫底座(4)嵌固于制備器(2)的底部位置；

所述降溫底座(4)包括外框(41)、葉片(42)、轉軸(43)，所述葉片(42)嵌固于轉軸(43)的外表面位置，所述轉軸(43)與外框(41)的內部活動卡合。

2.根據權利要求1所述的一種可調節的培養基制備器降溫設備，其特征在于：所述外框(41)包括外伸框(a1)、承接環(a2)、彈力條(a3)，所述外伸框(a1)與承接環(a2)活動卡合，所述彈力條(a3)安裝于外伸框(a1)與承接環(a2)的內壁之間。

3.根據權利要求2所述的一種可調節的培養基制備器降溫設備，其特征在于：所述外伸框(a1)包括清理塊(a11)、框架(a12)、回扯條(a13)，所述清理塊(a11)與框架(a12)活動卡合，所述回扯條(a13)安裝于框架(a12)的內壁與清理塊(a11)之間。

4.根據權利要求3所述的一種可調節的培養基制備器降溫設備，其特征在于：所述清理塊(a11)包括清除框(b1)、彈性條(b2)、銜接塊(b3)、內接環(b4)、推力塊(b5)，所述清除框(b1)通過銜接塊(b3)與內接環(b4)活動卡合，所述推力塊(b5)通過彈性條(b2)與清除框(b1)的內壁相連接。

5.根據權利要求4所述的一種可調節的培養基制備器降溫設備，其特征在于：所述清除框(b1)包括伸縮塊(b11)、固定環(b12)、回彈片(b13)，所述伸縮塊(b11)與固定環(b12)間隙配合，所述回彈片(b13)安裝于伸縮塊(b11)的后端與固定環(b12)的內壁之間。

6.根據權利要求5所述的一種可調節的培養基制備器降溫設備，其特征在于：所述伸縮塊(b11)包括排氣腔(c1)、前置板(c2)、過渡塊(c3)、彈力環(c4)、板面(c5)，所述排氣腔(c1)與前置板(c2)為一體化結構，所述前置板(c2)嵌固于過渡塊(c3)的右端位置，所述過渡塊(c3)與板面(c5)間隙配合，所述彈力環(c4)安裝于過渡塊(c3)的后端與板面(c5)的內壁之間。

7.根據權利要求6所述的一種可調節的培養基制備器降溫設備，其特征在于：所述前置板(c2)包括結合板(c21)、撞擊塊(c22)、連接片(c23)、套框(c24)，所述撞擊塊(c22)與套框(c24)間隙配合，所述連接片(c23)安裝于撞擊塊(c22)與套框(c24)之間，所述套框(c24)與結合板(c21)為一體化結構。