[發(fā)明專利]驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110005492.3
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN112838051A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉俊領(lǐng)
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/12
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

1.一種驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底上形成薄膜晶體管層，所述薄膜晶體管層包括至少一薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管層上形成第一金屬層以及第一無機(jī)層；

去除至少部分位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的所述第一無機(jī)層，以形成第一端子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，在所述薄膜晶體管層上形成第一金屬層以及第一無機(jī)層的步驟包括：

在所述薄膜晶體管層上形成一第一金屬材料層；

在所述第一金屬材料層上形成一第一無機(jī)材料層；

所述第一金屬材料層以及所述第一無機(jī)材料層經(jīng)第一圖案化處理形成所述第一金屬層以及所述第一無機(jī)層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，所述第一金屬材料層以及所述第一無機(jī)材料層經(jīng)第一圖案化處理形成所述第一金屬層以及所述第一無機(jī)層的步驟包括：

在所述第一無機(jī)材料層上形成一第一光阻材料層；

利用一第一掩膜版對所述第一光阻材料層曝光；

所述第一光阻材料層經(jīng)顯影后形成第一光阻區(qū)以及第一無光阻區(qū)；

利用第一蝕刻工藝去除所述第一無光阻區(qū)對應(yīng)的所述第一金屬材料層以及所述第一無機(jī)材料層，以形成所述第一金屬層以及所述第一無機(jī)層；

去除所述第一光阻材料層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，在所述薄膜晶體管層上形成第一金屬層以及第一無機(jī)層的步驟包括：

在所述薄膜晶體管層上形成一第一金屬材料層；

所述第一金屬材料層經(jīng)第二圖案化處理形成所述第一金屬層；

在所述第一金屬層上形成第一無機(jī)材料層；

所述第一無機(jī)材料層經(jīng)第三圖案化處理形成所述第一無機(jī)層。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，去除至少部分位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的所述第一無機(jī)層，以形成第一端子的步驟包括：

在所述第一無機(jī)層上形成一第四光阻材料層；

利用一第四掩膜版對所述第四光阻材料層曝光；

所述第四光阻材料層經(jīng)顯影后形成第四光阻區(qū)以及第四無光阻區(qū)，其中，所述第一無機(jī)層位于所述第四無光阻區(qū)內(nèi)；

利用第四蝕刻工藝去除所述第一無機(jī)層，以使所述第一金屬層形成所述第一端子。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或4所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，去除至少部分位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的所述第一無機(jī)層，以形成第一端子的步驟包括：

在所述第一無機(jī)層上形成一第五光阻材料層；

利用一第五掩膜版對所述第五光阻材料層曝光；

所述第五光阻材料層經(jīng)顯影后形成第五光阻區(qū)以及第五無光阻區(qū)；

利用第五蝕刻工藝去除所述第五無光阻區(qū)內(nèi)的第一無機(jī)層，以使所述第一保護(hù)層以及所述第一金屬層形成所述第一端子；

至少去除位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的所述第一保護(hù)層對應(yīng)的所述第五光阻材料層；

其中，所述第一保護(hù)層包括至少一位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)的第一開口。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，所述第一保護(hù)層位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)；或者，

所述第一保護(hù)層位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)、所述第一金屬層靠近所述薄膜晶體管的一側(cè)、以及所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述薄膜晶體管的一側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法，其特征在于，在襯底上形成薄膜晶體管層之后、在所述薄膜晶體管層上形成第一金屬層以及第一無機(jī)層之前，或者，在所述薄膜晶體管層上形成第一金屬層以及第一無機(jī)層之后，所述驅(qū)動(dòng)電路板的制作方法還包括：在所述薄膜晶體管層上形成遮光層。