[發明專利]藍寶石基GaN準垂直肖特基二極管反向漏電減小方法及肖特基二極管有效
| 申請號: | 202110004368.5 | 申請日: | 2021-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN112864014B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發明(設計)人: | 耿莉;劉江;楊明超;劉衛華;郝躍 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | H01L21/335 | 分類號: | H01L21/335;H01L21/3065;H01L29/872 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 高博 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 藍寶石 gan 垂直 肖特基 二極管 反向 漏電 減小 方法 | ||
1.藍寶石基GaN準垂直肖特基二極管反向漏電減小方法,其特征在于,采用光刻工藝在GaN樣品上制備厚度為300nm的金屬Ni腌膜,光刻工藝前,先將GaN樣品依次在丙酮、異丙醇、去離子水中進行清洗;然后采用感應耦合等離子體干法刻蝕工藝對GaN樣品進行刻蝕操作,直到n+GaN層;結合電子束工藝在刻蝕完的n+GaN樣品上蒸鍍Ti/Al/Ni/Au金屬層,并在高溫N2環境下進行快速熱退火處理,以形成歐姆接觸,蒸鍍Ti/Al/Ni/Au金屬層過程中,采用RTA快速退火設備在850℃,N2環境處理40s;采用光刻和電子束在n-GaN臺面上完成Ni/Au肖特基接觸的制備;采用勻膠機將SOG旋涂在GaN表面,勻膠機的轉速為4000rpm,然后采用濕法刻蝕工藝在旋涂后的GaN樣品表面進行陽極和陰極金屬的開窗口實驗,漏出電極;最后將GaN樣品放入超臨界反應釜內,向超臨界反應釜內充入CO2氣體,加入異丙醇和去離子水密封后進行反應,設備溫度從室溫上升到160℃,同時反應釜內的壓強為22MPa,維持以上溫度和壓強60min,得到基于超臨界二氧化碳流體的藍寶石基GaN準垂直肖特基二極管。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,肖特基陽極金屬選擇Ni/Au金屬。
3.一種肖特基二極管,其特征在于,根據權利要求1所述方法制備而成。
4.根據權利要求3所述的肖特基二極管,其特征在于,肖特基二極管在反向偏壓范圍內,漏電降低2個數量級。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





