[發明專利]一種摻鎂鈮酸鋰疇結構的制備方法

有效

• 申請號: 202110003399.9
• 申請日: 2021-01-04
• 公開（公告）號: CN112835262B
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發明（設計）人: 馬超群;陳偉;劉袁;張旺;崔國新;陸延青
• 申請（專利權）人: 南京大學
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/40;C30B33/04
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種摻鎂鈮酸鋰疇結構的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

(1)摻鎂鈮酸鋰晶體依次進行第一次涂覆光刻膠、一次烘干、光刻、顯影和鍍膜，得到初處理摻鎂鈮酸鋰晶體；所述第一次涂覆光刻膠后摻鎂鈮酸鋰晶體上光刻膠的厚度為0.8～1.2μm；

(2)初處理摻鎂鈮酸鋰晶體依次進行剝離光刻膠、第二次涂覆光刻膠和二次烘干，得到二次處理的摻鎂鈮酸鋰晶體；所述第二次涂覆光刻膠后摻鎂鈮酸鋰晶體上光刻膠的厚度為0.8～1.2μm；

(3)二次處理的摻鎂鈮酸鋰晶體依次進行加壓極化、剝離光刻膠和去除表面金屬，得到摻鎂鈮酸鋰疇結構；

所述加壓極化包括探針加壓法；

所述探針加壓法包括以下步驟：

(1’)在襯底和摻鎂鈮酸鋰晶體的-C面之間添加導電鹽溶液，形成歐姆接觸；

(2’)負極探針接觸襯底，正極探針接觸摻鎂鈮酸鋰晶體的+C面；

(3’)在正負極探針上施加脈沖偏置電壓。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述摻鎂鈮酸鋰晶體的厚度為350～400μm。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述第一次涂覆光刻膠前包括確定摻鎂鈮酸鋰晶體的+C面。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述確定摻鎂鈮酸鋰晶體的+C面與第一次涂覆光刻膠之間包括清洗摻鎂鈮酸鋰晶體。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述清洗中摻鎂鈮酸鋰晶體的+C面朝上。

6.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述清洗依次包括等離子清洗和超聲清洗。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述等離子清洗的時間為7～12min。

8.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述超聲清洗的時間為12～18min。

9.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述超聲清洗的次數為至少3次。

10.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述清洗與第一次涂覆光刻膠之間包括烘干。

11.根據權利要求10所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述烘干的溫度為75～85℃。

12.根據權利要求10所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述烘干的時間為5～15min。

13.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述第一次涂覆光刻膠在摻鎂鈮酸鋰晶體的+C面進行。

14.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述第一次涂覆光刻膠包括一次涂覆和二次涂覆。

15.根據權利要求14所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述一次涂覆的轉速為600～1000r/s。

16.根據權利要求14所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述一次涂覆的時間為8～12s。

17.根據權利要求14所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述二次涂覆的轉速為3500～4500r/s。

18.根據權利要求14所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述二次涂覆的時間為30～50s。