[發明專利]輻射單元方向圖調控結構及調控方法

有效

• 申請號: 202110002480.5
• 申請日: 2021-01-04
• 公開（公告）號: CN112886284B
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發明（設計）人: 郭建勇;梁超;滕康平
• 申請（專利權）人: 中信科移動通信技術股份有限公司
• 主分類號: H01Q25/00
• 分類號: H01Q25/00;H01Q3/30;H01Q15/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 張琪

1.一種輻射單元方向圖調控方法，應用于輻射單元方向圖調控結構，其特征在于，所述輻射單元方向圖調控結構包括用于設在輻射單元上方的引向片，所述引向片包括介質基板和設于所述介質基板上的呈規律性分布的若干個結構單元，所述引向片用于在輻射單元的上方形成超表面實現對輻射單元方向圖的調控；

每個所述結構單元均呈中心對稱結構；若干個所述結構單元整體呈對稱結構；

若干個所述結構單元呈陣列分布，任一列中的所述結構單元的尺寸相同，在陣列對稱線的一側不同列中的所述結構單元的尺寸不同；

或者，若干個所述結構單元呈同心圓分布，且相鄰兩個圓上的所述結構單元的尺寸不同；

所述結構單元包括設于所述介質基板上的印刷電路結構；或者所述結構單元包括設于所述介質基板上的縫隙以及設于所述縫隙中的液態金屬或磁性材料；或者所述結構單元包括設于所述介質基板上的通孔；

所述輻射單元方向圖調控方法包括：

在輻射單元上方設置分布有結構單元的引向片以在輻射單元上方形成超表面；

利用引向片形成的超表面，實現對輻射單元方向圖的調控；

所述利用引向片形成的超表面，實現對輻射單元方向圖的調控具體包括：

確定輻射單元的目標方向圖指標；

根據目標方向圖指標，設計確定所適用的引向片上結構單元的分布形式、形狀和尺寸；

所述根據目標方向圖指標，設計確定所適用的引向片上結構單元的分布形式、形狀和尺寸具體包括：

根據目標方向圖指標，確定引向片上結構單元的分布形式；

根據目標方向圖指標以及結構單元的分布形式，確定結構單元的目標相位；

根據結構單元的目標相位，確定結構單元的形狀和尺寸。

2.根據權利要求1所述的輻射單元方向圖調控方法，其特征在于，根據目標方向圖指標以及結構單元的分布形式，確定結構單元的目標相位具體包括：

根據以下公式確定結構單元的目標相位：

其中，為目標相位，k為波矢，R為波束聚焦半徑，h為結構單元對應的位置。

3.根據權利要求1所述的輻射單元方向圖調控方法，其特征在于，根據結構單元的目標相位，確定結構單元的形狀和尺寸具體包括：

設定結構單元的形狀和尺寸；

利用仿真軟件的參數掃描功能獲得在該設定的形狀和尺寸下，結構單元的目標相位的覆蓋范圍；

判斷結構單元的目標相位的覆蓋范圍是否滿足360°范圍；

若是，則以該設定的形狀和尺寸作為結構單元確定的形狀和尺寸。