[發明專利]用于激光加工設備的噴嘴和具有該噴嘴的激光加工設備

在審

• 申請號: 202080090001.3
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN114929425A
• 公開（公告）日: 2022-08-19
• 發明（設計）人: F·奧皮茨;N·韋肯曼
• 申請（專利權）人: 普雷茨特兩合公司
• 主分類號: B23K26/14
• 分類號: B23K26/14;B23K26/38
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 郭付昌

1.用于激光加工設備的噴嘴(10)，所述激光加工設備用于借助激光束加工工件(11)，所述噴嘴(10)包括：

-內噴嘴部分(12)，所述內噴嘴部分具有內通道(14)和核心流排出開口(18)，所述內通道用于導通所述激光束并且用于構造工藝氣體的核心流(20)，所述核心流排出開口用于所述激光束和所述工藝氣體的核心流(20)的排出；

-外噴嘴部分(22)，所述外噴嘴部分至少在第一噴嘴區域(46)中與所述內噴嘴部分(12)間隔開地布置并且與所述內噴嘴部分(12)一起形成環形通道(24)，所述環形通道用于構造所述工藝氣體的環形流(30)，所述環形通道具有環形流排出開口(28)，所述環形流排出開口用于所述環形流(30)的排出，

其中，所述環形通道(24)的橫截面面積朝向所述環形流排出開口(28)增大。

2.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述環形通道(24)的至少一個區域拉瓦爾形地構造，和/或其中，所述環形通道(24)形成拉瓦爾噴嘴。

3.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述環形通道(24)成形為使得所述環形流(30)在所述環形通道(24)內的區域中和/或在所述環形流排出開口(28)的區域中構造為超音速流，和/或其中，所述環形流(30)在所述環形流排出開口(28)的區域中的流動速度大于所述核心流(20)在所述核心流排出開口(18)的區域中的流動速度。

4.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述環形通道(24)具有第一區域(34)和第二區域(36)，所述第一區域具有不變的和/或在所述環形流排出開口(28)的方向上減小的橫截面面積，所述第二區域具有在所述環形流排出開口(28)的方向上增大的橫截面面積，其中，所述第一區域(34)和所述第二區域(36)彼此鄰接。

5.根據權利要求4所述的噴嘴(10)，其中，所述環形通道(24)的最小橫截面面積位于所述第一區域(34)中或者位于所述第一區域(34)與所述第二區域(36)之間。

6.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述環形通道(24)的橫截面面積在所述環形流排出開口(28)的區域中是最大的。

7.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述環形通道(24)具有內徑和外徑，

其中，所述環形通道(24)具有帶有在所述環形流排出開口(28)的方向上減小的內徑的至少一個區域和/或帶有在所述環形流排出開口(28)的方向上增大的外徑的至少一個區域和/或帶有恒定的內徑和/或外徑的至少一個區域，和/或其中，所述環形通道(24)具有帶有連續地改變的內徑和/或外徑的至少一個區域。

8.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述內通道(14)的橫截面面積朝向所述核心流排出開口(18)減小，和/或其中，所述內通道(14)具有錐形形狀和/或在所述核心流排出開口(18)的方向上收斂的形狀。

9.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述內通道(14)具有第一區域(38)和第二區域(40)，所述第一區域具有在所述核心流排出開口(18)的方向上減小的橫截面面積，所述第二區域具有不變的橫截面面積，其中，所述第一區域(38)在所述核心流排出開口(18)的方向上布置在所述第二區域(40)的前方。

10.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述內通道(14)的橫截面面積在所述核心流排出開口(18)的區域中是最小的。

11.根據上述權利要求中任一項所述的噴嘴(10)，其中，所述內通道(14)具有帶有在所述核心流排出開口(18)的方向上減小的直徑的至少一個區域和/或帶有恒定的直徑的至少一個區域，和/或其中，所述內通道(14)具有帶有連續地改變的直徑的至少一個區域。