[發明專利]一種用于制備復合過濾介質的方法和用該方法獲得的復合過濾介質

在審

• 申請號: 202080069793.6
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN114502252A
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 羅伯特·莫門特;卡爾米內·盧奇尼亞諾;瑪蒂娜·西蒙;保羅·卡諾尼卡
• 申請（專利權）人: 紗帝股份公司
• 主分類號: B01D39/08
• 分類號: B01D39/08
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 李薇;楊明釗

1.一種用于制備復合過濾介質(1)的方法，包括通過借助于靜電紡絲工藝在基底織物(2)上沉積納米纖維(4)來形成第一過濾介質(8)的步驟以及通過在真空室(9)中在所述第一過濾介質(8)上等離子體沉積包覆層(7)來覆蓋所述過濾介質(1)的步驟，其特征在于，在所述靜電紡絲工藝之后并且在所述包覆層(7)的所述等離子體沉積之前，所述方法提供在相同的室(9)內對形成前述第一過濾介質(8)的所述基底織物(2)和所述納米纖維(4)的脫氣步驟。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述脫氣步驟期間，使前述室(9)達到在5毫托和250毫托之間的內部壓力值。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述脫氣步驟期間，確保所述材料在所述室中從5秒至5分鐘的暴露時間。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在前述脫氣步驟之后并且在所述包覆層(7)的所述等離子體沉積之前，所述方法還提供通過在載氣的存在下并且在沒有任何含聚合物的氣體的情況下在所述室(9)中進行的對在先前脫氣步驟中獲得的所述第一過濾介質(8)的等離子體處理，在所述基底織物(2)和前述納米纖維(4)的表面上形成不規則部的步驟。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，前述載氣選自氮氣、氦氣、氬氣或氧氣。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，前述等離子體處理在所述室(9)中在10毫托-400毫托的壓力、采用100W-2000W的電極功率并且采用在5秒和5分鐘之間的暴露時間來進行。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述靜電紡絲工藝包括借助于噴嘴(5)擠出溶解在合適溶劑中的聚合物，并且隨后在所述噴嘴本身和電極之間拉伸纖維，從而獲得納米纖維在所述基底織物上的沉積，所述基底織物合適地置于所述噴嘴和所述電極之間，由此獲得的所述過濾介質(8)隨后經歷通過在所述基底織物(2)的暴露表面和所述納米纖維層(4)的暴露表面上等離子體沉積納米厚度的聚合物層(7)的表面處理，獲得前述復合過濾介質(1)，其中所述基底織物(2)的單絲(3)的外表面和前述納米纖維(4)的外表面包覆有所述聚合物層(7)。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，前述等離子體沉積處理包括產生10毫托-50毫托的真空、150瓦-350瓦的電極功率和0.5分鐘-6分鐘的暴露時間。

9.一種用于制備復合過濾介質(1)的方法，包括通過借助于靜電紡絲工藝在基底織物(2)上沉積納米纖維(4)來形成第一過濾介質(8)的步驟以及通過在真空室(9)中在所述第一過濾介質(8)上等離子體沉積包覆層(7)來覆蓋所述過濾介質(1)的步驟，其特征在于，在所述靜電紡絲工藝之后并且在所述包覆層(7)的所述等離子體沉積之前，所述方法提供通過在載氣的存在下并且在沒有任何含聚合物的氣體的情況下在所述室(9)中進行的對所述第一過濾介質(8)的等離子體處理，在所述基底織物(2)和所述納米纖維(4)的表面上形成不規則部的步驟。

10.一種復合過濾介質，所述復合過濾介質是包括基底織物(2)的類型，在所述基底織物(2)上沉積有納米纖維(4)，其特征在于，所述基底織物和前述納米纖維覆蓋有借助于等離子體工藝施加的納米包覆層(7)，所述基底織物(2)和所述納米纖維(4)具有通過在載氣的存在下并且在沒有任何含聚合物的氣體的情況下等離子體處理獲得的納米凹槽。

11.根據權利要求10所述的過濾介質，其特征在于，前述包覆層(7)由具有高達500nm的厚度、優選地具有15nm-60nm的厚度的膜形成。

12.根據權利要求10所述的過濾介質，其特征在于，前述包覆層(7)是基于具有斥水和斥油特性的氟碳丙烯酸酯的包覆層。