[發明專利]聚酰亞胺基膜及利用該聚酰亞胺基膜的窗覆蓋膜在審
| 申請號: | 202080066820.4 | 申請日: | 2020-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN114466900A | 公開(公告)日: | 2022-05-10 |
| 發明(設計)人: | 樸珉相;金惠璃;金惠真;樸盡秀;田承慜;曺永民 | 申請(專利權)人: | SK新技術株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社 |
| 主分類號: | C08L79/08 | 分類號: | C08L79/08;C08J5/18;G02F1/13363;G09F9/30 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 蔣洪之;安玉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚酰亞胺 利用 覆蓋 | ||
1.一種聚酰亞胺基膜,相對于膜的厚度方向,使入射光的線偏振的傾斜角為0°至60°來通過所述膜時,對于0°至360°的全方位角的圓形相位延遲值為-30°至30°。
2.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述圓形相位延遲值為-10°至10°。
3.根據權利要求2所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述圓形相位延遲值為-1°至1°。
4.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的利用Axoscan設備在400-800nm下測量的面內相位差(Rin)為500nm以下,并且面內相位差的均勻度為±20%以內。
5.根據權利要求4所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的面內相位差的均勻度為±10%以內。
6.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的根據ASTM D882的模量為3GPa以上,斷裂伸長率為8%以上,根據ASTM D1746在388nm下測量的透光率為5%以上且在400-700nm下測量的全光線透光率為87%以上,霧度為2.0%以下,黃色指數為5.0以下,并且b*值為2.0以下。
7.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜具有聚酰胺酰亞胺結構。
8.根據權利要求7所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜包含衍生自氟基芳香族二胺的單元、衍生自芳香族二酐的單元及衍生自芳香族二酰氯的單元。
9.根據權利要求8所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜還包含衍生自脂環族二酐的單元。
10.根據權利要求1所述的聚酰亞胺基膜,其中,所述聚酰亞胺基膜的厚度為30-110μm。
11.一種窗覆蓋膜,其包括:權利要求1至10中任一項所述的聚酰亞胺基膜;以及形成在所述聚酰亞胺基膜上的涂層。
12.根據權利要求11所述的窗覆蓋膜,其中,所述涂層為選自硬涂層、防靜電層、防指紋層、防污層、防刮擦層、低折射層、防反射層及沖擊吸收層中的任一種以上。
13.一種柔性顯示面板,其包括權利要求1至10中任一項所述的聚酰亞胺基膜。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于SK新技術株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社,未經SK新技術株式會社;愛思開高新信息電子材料株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202080066820.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





