[發明專利]真空泵及真空泵的附屬單元

在審

• 申請號: 202080063999.8
• 申請日: 2020-09-10
• 公開（公告）號: CN114341501A
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 深美英夫;笠原一哉;小川智優
• 申請（專利權）人: 埃地沃茲日本有限公司
• 主分類號: F04D19/04
• 分類號: F04D19/04;F16C32/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 朱美紅;張一舟

提供不需要與裝置側的工作計劃的調整、即使在不能將個人計算機帶入現場時也能夠簡單地進行裝入軟件的版本升級、設定數據的變更的真空泵及真空泵的附屬單元。在選擇設備（20）的裝入軟件等存儲部（11），保存有用來將當前保存于磁軸承控制部（3）、馬達驅動控制部（5）及保護功能處理部（7）的軟件更新的新的版本的軟件或模塊。此外，還保存有關于當前保存于設定參數（9）的設定值、警告值等參數的更新用的新的參數。從裝入軟件等存儲部（11）讀入的應用程序及參數被用戶接口處理部（15）發送給裝入軟件更新處理部（17），由該裝入軟件更新處理部（17）進行各種程序、數據的更新。

技術領域

本發明涉及真空泵及真空泵的附屬單元，特別涉及不需要與裝置側的工作計劃（schedule）的調整、即使在不能將個人計算機帶入現場時也能夠簡單地進行裝入軟件的版本升級、設定數據的變更的真空泵及真空泵的附屬單元。

背景技術

隨著近年來的電子學（electronics）的發展，存儲器、集成電路這樣的半導體的需求急劇地增大。

這些半導體是對純度很高的半導體基板摻雜雜質而賦予電性質、或借助蝕刻在半導體基板上形成微細的電路等來制造的。

而且，這些作業為了避免由空氣中的灰塵等帶來的影響而需要在高真空狀態的腔室內進行。在該腔室的排氣中一般使用真空泵，特別是從殘留氣體少、維修容易等的方面，較多使用作為真空泵中的一種的渦輪分子泵。

此外，在半導體的制造工序中，有較多數量的使各種各樣的工藝氣體作用于半導體的基板的工序，渦輪分子泵不僅用于使腔室內成為真空，也用于將這些工藝氣體從腔室內排氣。

該渦輪分子泵由泵主體和控制該泵主體的控制裝置構成。而且，以往公開了一種系統，其對于該控制裝置連接主計算機，將用來經由內置于該控制裝置的通信接口進行泵控制狀態的監視及起動停止等泵控制的軟件預先存儲保持在控制裝置內的存儲介質（參照專利文獻1）。

專利文獻1：日本特開2010－270599號公報。

發明內容

發明要解決的課題

順便說一下，渦輪分子泵即使在設置后也有為了功能的追加、不良狀況應對、規格的變更等而進行裝入軟件的版本升級、設定數據的變更的情況。在此情況下，如圖7所示，將個人計算機21用通信線纜201對于控制裝置200連接來進行這些處理。或者，在對于該控制裝置200連接著用來對泵主體100的監視控制進行遠程操作的選擇設備20的情況下，也有將個人計算機21對于該選擇設備20連接來進行這些處理的情況。

而且，在進行這些處理時，基本上需要返回服務站點進行作業，需要暫且將渦輪分子泵10的工作停止。在此情況下，為了從真空腔室等裝置將泵主體100拆卸，暫且將真空系統分離、解體，將真空狀態消除（大氣開放）。

然后，在將泵主體100再次連接后也需要檢查是否沒有氣體泄漏，作業變得復雜。

因此，也有在顧客理解下不將泵主體100拆卸而通過現場應對來實施的情況。

但是，在此情況下，雖然真空系統不分離、解體，但也需要暫且將泵停止，需要與裝置的工作計劃的調整。因而，需要在裝置側的維護中，匹配于將裝置停止等的時機而作業員前往現場執行功能追加等版本升級。

此外，最近因為安全上的問題，不能將個人計算機帶入現場的情況也增多，希望有在這樣的狀況下也能夠準確地進行裝入軟件的版本升級、設定數據的變更的系統。

本發明是鑒于這樣的以往的課題而做出的，目的是提供不需要與裝置側的工作計劃的調整、即使在不能將個人計算機帶入現場時也能夠簡單地進行裝入軟件的版本升級、設定數據的變更的真空泵及真空泵的附屬單元。

用來解決課題的手段