[發(fā)明專利]化妝料組合物

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202080061000.6
• 申請日: 2020-11-16
• 公開（公告）號: CN114302704A
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山科拓也;齋藤美幸;小出裕太郎;丹波惠
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社漫丹
• 主分類號: A61K8/73
• 分類號: A61K8/73;A61K8/34;A61K8/06;A61K8/25;A61K8/31;A61K8/37;A61K8/39;A61K8/92;A61Q19/00
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 王博;龐東成

提供一種化妝料組合物，該化妝料組合物包含粉體，但抑制了結(jié)塊。一種化妝料組合物，其含有成分(A)：辛烯基琥珀酸淀粉酯金屬鹽的粉體和/或滑石的粉體、成分(B)：IOB值為0～0.45的油性成分、成分(C)：乙醇、以及成分(D)：水，上述成分(A)的含有比例為0.01質(zhì)量％～15.0質(zhì)量％，上述成分(C)的含有比例為25.0質(zhì)量％～80.0質(zhì)量％，上述成分(B)與上述成分(A)的質(zhì)量比[成分(B)/成分(A)]為0.003～3.0。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化妝料組合物。

背景技術(shù)

存在許多在潤膚露、清涼化妝料、體香劑等化妝料中混配有粉體的情況。粉體的吸水性、吸油性優(yōu)異，因此在這些化妝料中混配粉體時，可得到吸附汗及皮脂、能夠使粘膩的皮膚為干爽觸感的效果，從這方面出發(fā)非常有用。作為混配有粉體的體香劑，例如已知專利文獻(xiàn)1中公開的物質(zhì)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2016-121124號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

但是，在混配有粉體的現(xiàn)有化妝料中，粉體發(fā)生沉降并凝聚/固化，存在容易產(chǎn)生所謂“結(jié)塊”的問題。因發(fā)生強(qiáng)烈的結(jié)塊，使用時即便振蕩，有時也難以使粉體分散(再分散)。另外，將這種化妝料填充到噴霧容器中進(jìn)行噴霧的情況下，粉體的凝聚物有可能堵塞噴霧機(jī)構(gòu)而產(chǎn)生噴霧不良。上述結(jié)塊的問題具有在乙醇含量多的化妝料、粘度低的化妝料中特別容易產(chǎn)生的傾向。

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種化妝料組合物，該化妝料組合物包含粉體，但抑制了結(jié)塊。

用于解決課題的手段

本發(fā)明人為了達(dá)到上述目的進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)下述化妝料組合物可抑制結(jié)塊，該化妝料組合物含有成分(A)：辛烯基琥珀酸淀粉酯金屬鹽的粉體和/或滑石的粉體、成分(B)：IOB值為0～0.45的油性成分、成分(C)：乙醇、以及成分(D)：水，成分(A)的含有比例為0.01質(zhì)量％～15.0質(zhì)量％，成分(C)的含有比例為25.0質(zhì)量％～80.0質(zhì)量％，成分(B)與成分(A)的質(zhì)量比[成分(B)/成分(A)]為0.003～3.0。本發(fā)明是基于這些技術(shù)思想而完成的。

即，本發(fā)明提供一種化妝料組合物，其含有下述成分(A)、下述成分(B)、下述成分(C)以及下述成分(D)，上述成分(A)的含有比例為0.01質(zhì)量％～15.0質(zhì)量％，上述成分(C)的含有比例為25.0質(zhì)量％～80.0質(zhì)量％，上述成分(B)與上述成分(A)的質(zhì)量比[成分(B)/成分(A)]為0.003～3.0。

成分(A)：辛烯基琥珀酸淀粉酯金屬鹽的粉體和/或滑石的粉體

成分(B)：IOB值為0～0.45的油性成分

成分(C)：乙醇

成分(D)：水

上述化妝料組合物優(yōu)選為皮克林乳液。

上述化妝料組合物不包含或包含非離子型表面活性劑和/或陰離子型表面活性劑，上述化妝料組合物中的非離子型表面活性劑和/或陰離子型表面活性劑的含有比例優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下。

上述成分(B)優(yōu)選為油性成分，其為選自由硅油、烴油、酯油以及植物油組成的組中的1種以上。

上述化妝料組合物可以進(jìn)一步含有下述成分(E)。

成分(E)：聚甘油-10十異硬脂酸酯

上述化妝料組合物可以進(jìn)一步含有下述成分(F)。

成分(F)：異丙基甲基苯酚

上述化妝料組合物中的上述成分(B)的含有比例優(yōu)選為1.0質(zhì)量％以下。